[发明专利]在介电基板上形成导电图案的方法

权利要求书

1、一种在介电基板之上形成导电图案的方法，该方法包括：

a)在一种覆有金属膜的基板上涂覆一层保护层，所述保护层是通过将金属膜放入含有至少一种含氮化合物的溶液中进行处理而得；

b)在非对应于将形成导电图案的区域上，以紫外线剥除其上至少部分的保护层，以这种方式使所述金属膜外露；以及

c)利用蚀刻法除去所述外露的金属膜。

2、如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述导电图案是在覆有一层铜层的基板上形成的。

3、如前述权利要求之一所述的方法，其特征在于，使用激光作为照射的紫外线。

4、如前述权利要求之一所述的方法，其特征在于，在步骤b)中，利用一种脉冲性激发激光来除去欲外露区域上的保护层。

5、如前述权利要求之一所述的方法，其特征在于，采用一种可使紫外线通过的掩模，将导电图案复制到所述的覆有金属膜的基板上。

6、如前述权利要求之一所述的方法，其特征在于，所述的含氮化合物是选自包括以下被烷基、芳基和/或芳烷基取代的化合物群中：咪唑、苯并咪唑、三唑、苯并三唑、吡咯、吡唑、恶唑、异恶唑、噻唑、苯并噻唑、吲哚、腺嘌呤、嘌呤、喹啉、吡嗪、喹唑啉、鸟嘌呤、黄嘌呤、次黄嘌呤、吲唑、肌酸酐、吩嗪、铜铁灵、四唑、噻二唑、噻三唑、异噻唑以及其衍生物，其中所述烷基中具有至少3个碳原子。

7、如权利要求1-5之一所述的方法，其特征在于，所述的含氮化合物中包含连接于其上的低聚物或聚合物链，且所述的含氮化合物选自包括以下被烷基、芳基和/或芳烷基所取代的化合物群中：咪唑、苯并咪唑、三唑、苯并三唑、吡咯、吡唑、恶唑、异恶唑、噻唑、苯并噻唑、吲哚、腺嘌呤、嘌呤、喹啉、吡嗪、喹唑啉、鸟嘌呤、黄嘌呤、次黄嘌呤、吲唑、肌酸酐、吩嗪、铜铁灵、四唑、噻二唑、噻三唑、异噻唑及其衍生物，其中所述烷基中具有至少3个碳原子。

8、如前述权利要求之一所述的方法，其特征在于，所述保护层的形成是通过使所述金属层与一种含至少一个氮的化合物的酸性水溶液接触而得。

9、如前述权利要求之一所述的方法，其特征在于，所述用以形成保护层的溶液中含有至少一种选自如下的酸：磷酸、硫酸、盐酸、亚磷酸、甲酸、乙酸、乙醇酸、草酸、丁二酸、顺丁烯二酸、酒石酸、己二酸或乳酸。

10、如前述权利要求之一所述的方法，其特征在于，所述保护层是是利用电化学反应形成的，其中，当所述金属层与含有含氮化合物的溶液接触时，在所述金属层与同样和溶液接触的电极之间至少施以一个间歇性电压；或者由于所述金属层与所述电极间的标准电位差，结果使所述金属层极化为阳极，而所述电极则极化为阴极，使得所述金属层和所述电极之间有电流流通。

11、如前述权利要求之一所述的方法，其特征在于，所述外露的金属膜是利用碱金属蚀刻溶液予以移除。

12、如前述权利要求之一所述的方法，其特征在于，使用水平连续法来形成所述保护层，并除去所述外露的金属膜。

13、如前述权利要求之一所述的方法，其特征在于，所述保护层是在所述金属膜已经移除之后再予以剥除。