[发明专利]用于通过低压等离子体处理容器的装置的真空通路

权利要求书

1.用低压等离子体处理容器(30)的装置，其等离子体由电磁微波激发一种气体而产生，该装置包括至少一个处理工位(14)，所述处理工位包括一个用于容纳要处理的容器的固定空腔(32)，所述空腔通过一个真空通路(74)连接着一个低压源；所述的处理工位(14)包括一个可将所述空腔(32)密封地封闭的活动盖体(34)；通过将所述盖体(34)相对于所述空腔(32)移动来确保在处理前将容器引入所述空腔(32)并在处理后将容器取出；

其特征在于，所述盖体(34)包括一个连接通道(64)，当所述盖体(34)处于密封空腔(32)的封闭位置时，所述连接通道(64)可使空腔(32)与所述真空通路(74)的一个固定端(68)连通。

2.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述的连接通道(64)包括：一个连接端(66)，其与所述真空通路的所述固定端(68)配合；和两个端口(65，80)，其在所述盖体处于封闭位置时，通出一个界定所述空腔的所述盖体的下表面(60)；而支撑装置(54)用于将要处理的容器(58，30)的开口密封地紧贴着所述盖体(34)的所述下表面(60)，所述开口完全包围着一个第一所述端口，使得容器(30)在所述空腔(32)中界定出两部分：由第一所述端口(65)连接所述真空通路的第一部分，和由第二个所述端口(80)连接所述真空通路的第二部分。

3.如权利要求2所述的装置，其特征在于，两个端口(65，80)中的一个包括一个控制阀(82)，所述控制阀用于当盖体(34)处于封闭位置时，将所述空腔密封地分为两部分。

4.如权利要求3所述的装置，其特征在于，所述阀为一个控制阀门(82)。

5.如权利要求2至4中任一项所述的装置，其特征在于，所述连接通道(64)的第一端口(65)可穿过一个喷射器(62)，用于向容器(30)内部充入反应气体。

6.如上述权利要求中任一项所述的装置，其特征在于，所述连接通道包括一个空气再入孔，该孔通向自由空气，并装有一个控制阀的节流门，该节流门用于在处理结束后将所述空腔(32)与大气连通。

7.如上述权利要求中任一项所述的装置，其特征在于，所述盖体(34)包括容器(30)的支撑装置(54)。