[发明专利]具有优异的激光开孔特性的铜箔及其制造方法有效
申请号: | 00815215.2 | 申请日: | 2000-12-04 |
公开(公告)号: | CN1387745A | 公开(公告)日: | 2002-12-25 |
发明(设计)人: | 北野皓嗣;花房干夫 | 申请(专利权)人: | 株式会社日矿材料 |
主分类号: | H05K1/09 | 分类号: | H05K1/09;B23K26/00;B23K26/18 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 张天安,杨松龄 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 优异 激光 特性 铜箔 及其 制造 方法 | ||
1.一种具有优异的激光开孔特性的铜箔,其特征是,在激光照射面上,具有含有铟、锡、钴、锌、钴合金及镍合金中的任意一种以上的层。
2.如权利要求1所记载的具有优异的激光开孔特性的铜箔,其特征是,具有含有镍、磷、锌、铜中的至少一种以上的钴合金层。
3.如权利要求1所记载的具有优异的激光开孔特性的铜箔,其特征是,具有含有铜、锌、磷中的任意一种以上的镍合金层。
4.如权利要求1~3中任一项所记载的具有优异的激光开孔特性的铜箔,其特征是,钴、镍、锡、锌或铟的含有量分别为0.1~100mg/dm2(其中,锌的含有量为0.5~100mg/dm2)。
5.如权利要求1~4中任一项所记载的具有优异的激光开孔特性的铜箔,其特征是,铜箔的厚度为18微米以下。
6.一种具有优异的激光开孔特性的铜箔的制造方法,其特征是,在铜箔的激光照射面上,形成含有铟、锡、钴、锌、钴合金及镍合金中的任意一种以上的层。
7.如权利要求6所记载的具有优异的激光开孔特性的铜箔的制造方法,其特征是,形成含有镍、磷、锌、铜中的至少一种以上的钴合金层。
8.如权利要求6所记载的具有优异的激光开孔特性的铜箔的制造方法,其特征是,形成含有铜、锌、磷中的任意一种以上的镍合金层。
9.如权利要求6~8中任一项所记载的具有优异的激光开孔特性的铜箔的制造方法,其特征是,通过电镀形成所说层。
10.如权利要求6~9中任一项所记载的具有优异的激光开孔特性的铜箔的制造方法,其特征是,钴、镍、锡、锌或铟的含有量分别为0.1~100mg/dm2(其中,锌的含有量为0.5~100mg/dm2)
11.如权利要求6~10中任一项所记载的具有优异的激光开孔特性的铜箔的制造方法,其特征是,铜箔的厚度为18微米以下。
12.如权利要求6~11中任一项所记载的具有优异的激光开孔特性的铜箔的制造方法,其特征是,在所说层形成后,实施防锈处理。
13.如权利要求12所记载的具有优异的激光开孔特性的铜箔的制造方法,其特征是,防锈处理面中含有铬和/或锌。
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