[发明专利]具有中孔或复合的中孔和微孔的无机氧化物及其制备方法无效
申请号: | 00815241.1 | 申请日: | 2000-03-16 |
公开(公告)号: | CN1387496A | 公开(公告)日: | 2002-12-25 |
发明(设计)人: | Z·单;T·马施梅耶;J·C·杨森 | 申请(专利权)人: | 代尔夫特科技大学;ABB拉默斯环球有限公司 |
主分类号: | C01B33/12 | 分类号: | C01B33/12 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 王景朝,郭广迅 |
地址: | 荷兰代*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 复合 微孔 无机 氧化物 及其 制备 方法 | ||
1.一种包含微孔和中孔的无机氧化物的生产方法,包括:
对包含水、无机氧化物和通过氢键与所述无机氧化物结合的至少一种化合物的混合物进行加热,所述加热在一定的温度下进行一定的时间,以产生含微孔和中孔的无机氧化物。
2.权利要求1的方法,其中,所述化合物是三乙醇胺、环丁砜、四亚乙基五胺、二乙基乙二醇二苯甲酸酯或二醇。
3.权利要求1的方法,其中,所述混合物还包括微孔形成剂。
4.权利要求3的方法,其中,所述微孔形成剂是季铵盐。
5.权利要求3的方法,其中,无机氧化物是非晶形硅酸盐。
6.权利要求5的方法,其中,所述化合物是二醇。
7.权利要求5的方法,其中,二醇的沸点至少为150℃。
8.权利要求5的方法,其中,所述加热包括将混合物保持在约为水的沸点下,以从无机氧化物前体中蒸发掉水和挥发性有机物,然后在高于300℃的温度下进行煅烧。
9.权利要求1方法,其中,无机材料是硅酸盐材料,它们选自原硅酸四乙酯、煅制二氧化硅、硅酸钠和硅溶胶。
10.权利要求7的方法,其中,二醇选自甘油、二甘醇、三甘醇和四甘醇。
11.权利要求10的方法,其中,所述混合物还包含离子源,它们选自第IVA、VB、VIB、VIIB、VIII、IB、IIB和IIIA族元素。
12.权利要求10的方法,其中,所述混合物还包含铝离子源。
13.权利要求1的方法,其中,无机氧化物包括氧化铝。
14.权利要求1的方法,其中,所述混合物还包括细碎状的结晶沸石。
15.权利要求14的方法,其中,沸石的平均粒径为5-1500纳米。
16.一种产物,包含:
无机氧化物,所述非晶形无机氧化物包含中孔和微孔,所述微孔的量以基于微孔和中孔计从3%至60%孔体积。
17.权利要求16的产物,其中,BET表面积为50-1250m2/g。
18.权利要求16的产物,其中,复合的微孔和中孔体积为0.3-2.2ml/g。
19.权利要求16的产物,其中,中孔的孔径分布产生了孔径分布图,在该图中,在图的半高处图的宽度与图最大高度处孔径的比率不大于0.75。
20.权利要求16的产物,其中,中孔和微孔的孔径分布图包括明显的中孔峰和微孔峰。
21.权利要求16的产物,其中,至少一部分微孔具有结晶结构。
22.权利要求19的产物,其中,至少一部分微孔具有结晶结构。
23.一种生产无机氧化物的方法,所述氧化物包含中孔和低于3体积%的微孔,所述方法包括:
对包含水、无机氧化物和通过氢键与所述无机氧化物结合的至少一种化合物的混合物进行加热,所述加热在一定的温度下进行一定的时间,以产生含微孔和中孔的无机氧化物;并对所述无机氧化物进行水热处理,从而将微孔降低至中孔和微孔孔体积的3%以下。
24.一种生产无机氧化物的方法,所述氧化物包含微孔和低于3体积%的中孔,所述方法包括:
对包含水、无机氧化物和通过氢键与所述无机氧化物结合的至少一种化合物的混合物进行加热,所述加热在主要形成中孔的温度以下的温度进行,并在主要形成中孔的温度以下的温度除去所述化合物,从而生产出含微孔和中孔的无机氧化物。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于代尔夫特科技大学;ABB拉默斯环球有限公司,未经代尔夫特科技大学;ABB拉默斯环球有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/00815241.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。