[发明专利]新型硅氮烷和/或聚硅氮烷化合物及其制备方法有效
申请号: | 00815558.5 | 申请日: | 2000-11-02 |
公开(公告)号: | CN1390223A | 公开(公告)日: | 2003-01-08 |
发明(设计)人: | 艾伯特·E·埃布尔;特蕾西·A·克鲁格;罗伯特·W·莫克;加里·J·纳西亚克 | 申请(专利权)人: | 基昂公司 |
主分类号: | C07F7/02 | 分类号: | C07F7/02;C08G77/62 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 丁业平,王维玉 |
地址: | 美国俄*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 新型 硅氮烷 聚硅氮烷 化合物 及其 制备 方法 | ||
1.硅氮烷或聚硅氮烷,其特征在于包括较少Si-H键的硅-氮重复单元,所述较少Si-H键是相对于掺入到来自含Si-H键的起始化合物的硅氮烷或聚硅氮烷中的Si-H键数而言的。
2.权利要求1的硅氮烷或聚硅氮烷,其特征在于基本上不含金属杂质。
3.权利要求1的硅氮烷或聚硅氮烷,其特征在于具有比含Si-H键起始化合物中的Si-H键减少至少10%的Si-H键。
4.权利要求1的硅氮烷或聚硅氮烷,其特征在于具有比含Si-H键起始化合物中的Si-H键减少至少90%的Si-H键。
5.权利要求1的硅氮烷或聚硅氮烷,其特征在于,Si-H键减少程度与所述硅氮烷或聚硅氮烷化合物的粘度增加程度成比例。
6.权利要求1的硅氮烷或聚硅氮烷,其包括8元梯样重复单元,该梯样重复单元具有如下结构式特征:
其中R可彼此相同或不同,并选自氢原子、取代或未取代的烷基、取代或未取代的环烷基、取代或未取代的链烯基或者取代或未取代的芳基,且n是1或更大。
7.权利要求1的硅氮烷或聚硅氮烷,其包括具有6元环重复单元,该重复单元具有如下结构式特征:
其中R可彼此相同或不同,并选自氢原子、取代或未取代的烷基、取代或未取代的环烷基、取代或未取代的链烯基或者取代或未取代的芳基,且n是1或更大。
8.权利要求1的硅氮烷或聚硅氮烷,其特征在于所述含Si-H键的起始化合物是选自卤代硅烷、硅氮烷、聚硅氮烷及其混合物中的至少一种。
9.权利要求8的硅氮烷或聚硅氮烷,其特征在于所述卤代硅烷选自RSiX3、R2SiX2、R3SiX及其混合物,其中R可彼此相同或不同,并选自氢原子、取代或未取代的烷基、取代或未取代的环烷基、取代或未取代的链烯基或者取代或未取代的芳基,条件是至少一个R是氢原子,且X是卤素。
10.权利要求9的硅氮烷或聚硅氮烷,其进一步特征在于所述卤代硅烷选自RSiX3、R2SiX2、R3SiX及其混合物,其中R可彼此相同或不同,并选自包括下列基团的组:取代或未取代的烷基、取代或未取代的环烷基、取代或未取代的链烯基或者取代或未取代的芳基,且X是卤素。
11.权利要求1的硅氮烷或聚硅氮烷,其包括以如下结构式为特征的终止末端基团:
其中R可彼此相同或不同,并选自氢原子、取代或未取代的烷基、取代或未取代的环烷基、取代或未取代的链烯基或者取代或未取代的芳基,且n是1或更大。
12.权利要求1的硅氮烷或聚硅氮烷,其特征在于只在氮原子上被聚合链取代的四元杂环,具有如下结构式:
其中R可彼此相同或不同,并选自氢原子、取代或未取代的烷基、取代或未取代的环烷基、取代或未取代的链烯基或者取代或未取代的芳基,且n是1或更大。
13.权利要求1的硅氮烷或聚硅氮烷,其特征在于具有选自如下结构式的至少一种及其混合物:
其中R可彼此相同或不同,并选自氢原子、取代或未取代的烷基、取代或未取代的环烷基、取代或未取代的链烯基或者取代或未取代的芳基,且n是1或更大。
14.权利要求1的硅氮烷或聚硅氮烷,其中所述化合物的特征在于构型选自直链结构、聚合物、至少4元的环、至少4元的平面环、具有至少2个环的稠合环平面结构、具有至少2个环的稠合环结构及其混合物。
15.由氨解反应制备的硅氮烷或聚硅氮烷,所述氨解反应特征在于无水液氨中的起始化合物包括至少一个Si-H键,所述硅氮烷或聚硅氮烷特征在于聚合化合物中的硅-氮重复单元,与起始化合物中的Si-H键相比,所述聚合化合物具有较少量的Si-H键。
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