[发明专利]阴极射线管的抗电磁辐射及抗眩光多层涂布及其制作方法

权利要求书

1、一种阴极射线管的抗电磁辐射及抗眩光多层涂布，此阴极射线管具有一玻璃面板，此多层涂布包含：

在该玻璃面板的外表面以溅镀涂布方式涂布的复数层抗电磁辐射层；

一抗眩光层，是以喷雾涂布方式均匀涂布于该溅镀层的外表面。

2、如权利要求1所述的阴极射线管的抗电磁辐射及抗眩光多层涂布，其中该复数层抗电磁辐射层包含：

一附着层，该附着层是涂布于该阴极射线管的玻璃面板外侧表面上；

一光吸收层，该光吸收层是涂布于该附着层的外侧表面上；

一导电层，该导电层是涂布于该光吸收层的外侧表面上；

一保护层，该保护层是涂布于该导电层的外侧表面上。

3、如权利要求2所述的阴极射线管的抗电磁辐射及抗眩光多层涂布，其中该附着层的结构成分中含有二氧化硅，该附着层的厚度为10～20nm(10^-9m)。

4、如权利要求2所述的阴极射线管的抗电磁辐射及抗眩光多层涂布，其中该光吸收层的成分中含有铬或其金属氧化物，该光吸收层的厚度为10～20nm(10^-9m)。

5、如权利要求2所述的阴极射线管的抗电磁辐射及抗眩光多层涂布，其中该导电层的材料中含有锡铟氧化物(ITO)成分，该导电层的厚度为20～40nm(10^-9m)。

6、如权利要求2所述的阴极射线管的抗电磁辐射及抗眩光多层涂布，其中该保护层的结构成分中含有二氧化硅，该保护层的厚度为20～30nm(10^-9m)。

7、如权利要求2所述的阴极射线管的抗电磁辐射及抗眩光多层涂布，其中该导电层通过一导体连接至接地端。

8、如权利要求1所述的阴极射线管的抗电磁辐射及抗眩光多层涂布，其中该抗眩光层的涂布材料为一种水解聚合物，包括：

一个硅氧化合物，重量百分比为5～15％；

一酸类，重量百分比为0.05～0.1％；

一醇类，重量百分比为5～50％；

一2-丁酮，重量百分比为3～8％；

一表面活性剂，重量百分比为0.1～0.5％。

9、如权利要求8所述的阴极射线管的抗电磁辐射及抗眩光多层涂布，其中该水解聚合物的重量平均分子量为1500～4000/mole，该硅氧化合物为Si(OEt)₄其中Et为乙基，该酸类为硫酸、硝酸或盐酸，该醇类为异丙醇、甲醇或乙醇，而该表面活性剂为聚烯烃氧化改性的聚二甲基硅氧烷。

10、如权利要求1所述的阴极射线管的抗电磁辐射及抗眩光多层涂布，其中该抗眩光层厚度为0.001～0.01mg/cm²。

11、一种阴极射线管的抗电磁辐射及抗眩光多层涂布制作方法，包含下列步骤：

制备一玻璃面板；

在此玻璃面板上溅镀一附着层；

在此附着层上溅镀一吸收层；

在此吸收层上溅镀一导电层；

在此导电层上溅镀一保护层；

以喷雾制作方式在保护层上涂布抗眩光材料。

12、如权利要求11所述的阴极射线管的抗电磁辐射及抗眩光多层涂布制作方法，其中该附着层的结构成分中含有二氧化硅，该附着层的厚度为10～20nm(10^-9m)。

13、如权利要求11所述的阴极射线管的抗电磁辐射及抗眩光多层涂布制作方法，其中该光吸收层的成分中含有铬或其金属氧化物，该光吸收层的厚度为10～20nm(10^-9m)。

14、如权利要求11所述的阴极射线管的抗电磁辐射及抗眩光多层涂布制作方法，其中该导电层的材料中含有锡铟氧化物(ITO)成分，该导电层的厚度为20～40nm(10^-9m)。

15、如权利要求11所述的阴极射线管的抗电磁辐射及抗眩光多层涂布制作方法，其中该保护层的结构成分中含有二氧化硅，该保护层的厚度为20～30nm(10^-9m)。