[发明专利]平版印刷版原版的制造方法无效
申请号: | 01104305.9 | 申请日: | 2001-02-23 |
公开(公告)号: | CN1310359A | 公开(公告)日: | 2001-08-29 |
发明(设计)人: | 上杉彰男 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;B41N3/03;G03F7/00 |
代理公司: | 北京市专利事务所 | 代理人: | 程凤儒 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 平版印刷 原版 制造 方法 | ||
1.平版印刷版原版的制造方法,其特征在于,采用机械表面粗化、用以氢氧化钠为主体的液体进行腐蚀以及以盐酸或硝酸为主体的电解表面粗化中的至少2种工艺对铝基板进行表面粗化/腐蚀,制造满足下列要求条件(1)-(4)的铝板,然后使用以硫酸、草酸或磷酸为主体的处理液,使电导率保持一定,同时将初期电流密度控制在比末期电流密度低的水平上,进行阳极氧化膜生成工序,得到铝支持体,在该支持体上形成可以用红外激光写入的感光层,
(1)使用水平(X、Y)方向的分辨率为1.9μm的AFM(原子间力显微镜)在240μm见方的范围内测定,倾斜度在30度以上的比例(a30)是70%以内;
(2)0.15μm≤Ra≤0.90μm;
(3)Rp≤8Ra;
(4)Rmax≤14Ra。
2.权利要求1所述的平版印刷版原版的制造方法,其特征在于,经过上述阳极氧化膜生成工序得到的铝支持体具有满足下列条件(5)的表面形状。
(5)表面积差在10%以上、90%以下。
(所述的表面积差,是使用水平(X、Y)方向的分辨率为0.1μm的AFM(原子间力显微镜),在50μm见方的范围内测定表面形状,设用近似3点法求出的表面积为a1、上部投影面积为a0时,用%单位表示[(a1-a0)/a0]*100的值。)
3.权利要求1所述的平版印刷版原版的制造方法,其特征在于,所述的阳极氧化膜生成工序是将处理液的液温、电导率和比重控制为一定,电解液流速在1-250cm/秒的范围,设置电流密度不同的3段以上的区,第1段的电流密度相对于最终段的电流密度为60%以下。
4.权利要求3所述的平版印刷版原版的制造方法,其特征在于,所述的第1段的电流密度在0.1-15A/dm2的范围。
5.权利要求1所述的平版印刷版原版的制造方法,其特征在于,所述的感光层是含有红外线吸收剂、通过热而产生酸或自由基的化合物以及通过酸而交联的化合物或自由基聚合性化合物的负型感光层。
6.权利要求1所述的平版印刷版原版的制造方法,其特征在于,所述的感光层是含有红外线吸收剂、通过热而产生酸的化合物以及具有通过酸而分解的结合部的化合物的正型感光层。
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
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