[发明专利]平版印刷版原版的制造方法无效
申请号: | 01104305.9 | 申请日: | 2001-02-23 |
公开(公告)号: | CN1310359A | 公开(公告)日: | 2001-08-29 |
发明(设计)人: | 上杉彰男 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;B41N3/03;G03F7/00 |
代理公司: | 北京市专利事务所 | 代理人: | 程凤儒 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 平版印刷 原版 制造 方法 | ||
本发明是关于平版印刷版原版的制造方法,特别是关于以铝板作为支持体、具有良好的激光曝光适应性并且感光层与支持体的结合力良好的平版印刷版原版的制造方法。
以铝板作为支持体的感光性平版印刷版被广泛地用于胶印印刷。这种平版印刷版原版的制造方法,一般是将薄板状或卷状的铝板进行表面粗化,再进行阳极氧化处理,涂布感光液,进行干燥,切割成所要求的均匀一致的尺寸。就表面粗化工序而言,在酸性溶液中进行电化学表面粗化处理对于提高与感光层的结合力是十分有效的。另外,在阳极氧化处理后,还可以进行表面处理或涂布底涂液,以提高与感光液的结合力。
特别是在使用卷状的铝板的场合,可以在涂布感光液并进行干燥后切割成所要求的均匀一致的尺寸,也可以卷取成卷状贮存,然后根据需要切割成所需要的均匀一致的尺寸。在这一制造过程中,要将切割成规定尺寸的许多张平版印刷版原版叠放,打捆包装。另外,包装后出厂的平版印刷版原版由用户进行晒图,显像处理,为了安装到印刷机上还要将其端部进行弯曲处理,然后才能安装到印刷机上使用。最近逐渐实用化的、利用计算机等的数字数据使用红外激光直接制版的直描型平版印刷版原版,是使用激光曝光装置进行晒图。这种制版方式目前已经知道的有,将上述平版印刷版原版安装在印刷机的印刷滚筒上,然后在印刷机上进行晒图、不经过显像处理就可以直接印刷的方式,以及在印刷机上或者用别的曝光装置进行晒图后,在安装到印刷机上的状态下,例如利用印刷用的润版药水等进行显像处理的机上显像方式等。
直描型平版印刷版原版上使用的感光层,与以往的借助于金属版印刷胶片通过紫外线曝光进行记录的平版印刷版原版的感光层不同,大多非常纤细并且感光度很高,支持体表面的硬度和形状均一与否对于获得良好的印刷版是致关重要的。具有这样的感光层的平版印刷版原版的记录方法可以举出:利用激光进行曝光,使曝光部固化或可溶化,然后进行显像处理,取决于有无激光照射,在平版印刷版原版的表面上形成图像部和非图像部的方法;使曝光部的记录层变成可剥离状态的方法;以及,通过曝光改变感光层表面的亲水性和疏水性,形成图像部和非图像部的方法等。就显像方式而言,也有人提出了在安装到印刷机上的状态下利用润版药水或物理应力简便地进行显像的方法。
这种取决于有无激光照射而形成图像部和非图像部的结构大致可以分为两种。一种是被称为光子方式的方法,该方法是利用激光的光能本身改变感光层表面的物性的方法;另一种是被称为热方式的方法,该方法是吸收激光后产生热,利用所产生的热改变感光层表面的物性,或者利用该热量发生蒸发和体积膨胀,从而引起剥离和飞散等,除去表面物质的一部分的方法。另外,激光照射通常是在非常短的时间内进行的,在这样短时间内激光照射到的部位,无论光子方式还是热方式,表面的物性都必须发生变化。
平版印刷版原版的支持体所使用的基板,为了提高与感光层的结合力,通常要进行电解表面粗化处理,另外,保持表面硬度的阳极氧化工序也很重要。在可以直接制版的直描型平版印刷版原版中,为了在极短的时间内利用激光引起表面物性变化,并且为了使用铝板作为支持体,支持体的表面必须具有与感光层的适度的结合力和保水性,必须进行均匀的表面粗化。所谓均匀的表面粗化,是指经过表面粗化而产生的麻坑的大小均一,并且在整个表面上均匀地形成麻坑。这些麻坑对于版材的印刷性能例如不易污染性和耐印刷性等影响很大,其好坏在版材制造上是一个重要的因素。
近年来,利用计算机等的数字信号直接制版的系统随着信息系统的发展而逐渐流行起来,特别是发射波长760nm-1200nm红外线的固体激光器和半导体激光器,容易制成高输出功率和小型的装置,因而这些激光器作为直接制版时的记录光源是非常有用的。为此,作为平版印刷版原版用的支持体,希望研制能抑制激光的光晕、兼有保水性、亲水性、耐印刷性和不易印刷污染等印刷版的重要特性的支持体。
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G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
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