[发明专利]非挥发性内存控制电路及其控制方法有效
申请号: | 01109547.4 | 申请日: | 2001-03-30 |
公开(公告)号: | CN1378289A | 公开(公告)日: | 2002-11-06 |
发明(设计)人: | 陈伟梵;俞大立 | 申请(专利权)人: | 华邦电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/115 | 分类号: | H01L27/115;H01L21/8247;G11C16/02 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人: | 程伟 |
地址: | 中国*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 挥发性 内存 控制电路 及其 控制 方法 | ||
1.一种非挥发性内存控制电路,适用于具有一源极、一漏极、一控制栅、以及一基体极的一非挥发性存储单元;该非挥发性内存控制电路包括:
一电压源;
一第一电荷泵电路,连接该电压源升压产生一第一正电压;
一字符线开关,选择该电压源和该第一正电压中的一者及于该控制栅;
一第二电荷泵电路,连接该电压源升压产生一第二正电压;
一源极开关,选择一接地电位和该第二正电压中的一者及于该源极;
一第三电荷泵电路,连接该电压源产生一第一负电压;以及
一基体极开关,选择该接地电位和该第一负电压中的一者及于该基体极。
2.如权利要求1所述的非挥发性内存控制电路,尚包括一分压电路,连接该电压源经分压产生该控制栅所建构的MOS晶体管架构的一门限电压值。
3.如权利要求1所述的非挥发性内存控制电路,其中,该非挥发性存储单元是设置于一N型半导体基板内的一P型井区内。
4.如权利要求1所述的非挥发性内存控制电路,其中,该非挥发性存储单元是设置于一N型井区内的一P型井区内,而该N型井区是形成于一P型半导体基板内。
5.一种非挥发性内存控制方法,适用于具有一源极、一漏极、一控制栅、以及一基体极的一非挥发性存储单元;该非挥发性内存控制方法,是于一抹除操作下,提供一正电压至该控制栅,而提供一负电压至该基体极。
6.如权利要求5所述的非挥发性内存控制方法,其中,当于该抹除操作下,该漏极和源极是呈高阻抗状态。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的