[发明专利]电子束照射装置、电子束照射方法、原版盘、压模和记录媒体

权利要求书

1．一种电子束照射装置，其特征在于所述电子束照射装置包括：

用于支持要用电子束照射的电子束照射体的支持部分和

经微小间隔与所述电子束照射体相对的头，所述头具有电子束发射孔，用于使电子束照射所述电子束照射体，

在所述电子束照射头上，围绕与所述电子束发射孔相通的电子束路径形成从面对所述电子束照射体的所述电子束照射头的表面开口的至少一个环形吸气槽，

抽气装置，连接于所述电子束路径和所述环形吸气槽，并且把所述电子束路径维持在高真空状态。

2．根据权利要求1的电子束照射装置，其特征在于围绕作为中心的所述电子束发射孔设置至少两个环形吸气槽，并且环形吸气槽越靠近中心设置，环形吸气槽抽出的真空度越高。

3．根据权利要求1的电子束照射装置，其特征在于所述电子束照射头与所述电子束照射体之间的微小间隔由静压浮动结构维持。

4．根据权利要求1的电子束照射装置，其特征在于所述电子束照射头与所述电子束照射体之间的微小间隔使用氮气或惰性气体由静压浮动结构维持。

5．根据权利要求1的电子束照射装置，其特征在于所述电子束照射体是形成用于以涂覆的抗蚀剂进行记录媒体制造的原版盘的基片，形成压模的基片，或形成记录媒体的基片。

6．一种电子束照射方法，经微小间隔把具有用于以电子束照射电子束照射体的电子束发射孔的电子束照射头与支持部分支持的电子束照射体相，并用电子束照射电子束照射体，所述电子束照射方法包括步骤：

围绕电子束路径的所述电子束照射头与所述电子束发射孔相通，所述环形吸气槽从面对所述电子束照射体的所述电子束照射头的表面开口；

在对所述电子束路径和所述环形吸气槽抽气的同时，把所述电子束路径维持在高真空状态。

7．根据权利要求6的电子束照射方法，包括步骤：

围绕作为中心的所述电子束发射孔设置至少两个环形吸气槽，并且

对环形吸气槽抽气，使得把环形吸气槽抽成其越靠近中心设置其抽出的真空度越高。

8．根据权利要求6的电子束照射方法，其中使用静压浮动结构来维持所述电子束照射头与所述电子束照射体之间的所述微小间隔。

9．根据权利要求6的电子束照射方法，其中所述电子束照射头与所述电子束照射体之间的所述微小间隔通过使用氮气或惰性气体的静压浮动结构维持。

10．根据权利要求6的电子束照射方法，其中所述电子束照射体是形成用于以涂覆的抗蚀剂进行记录媒体制造的原版盘的基片，形成压模的基片，或形成记录媒体的基片。

11．一种使用电子束照射装置制造的原版盘，所述电子速照射装置以从电子枪发射的电子束照射在形成于基片上的抗蚀剂层，所述电子束照射装置包括

用于支持要用所述电子束照射的基片的支持部分，

经微小间隔与所述主体相对的头，所述头具有电子束发射孔，用于以所述电子束照射所述基片，

围绕与所述电子束发射孔相通的电子束路径在所述电子束照射头上形成至少一个环形吸气槽，所述环形吸气槽从面对所述体的所述电子束照射头的表面开口，

连接于所述电子束路径和所述环形吸气槽的抽气装置，把所述电子束路径维持在高真空状态。

12．一种使用电子束照射装置制造的压膜，所述电子速照射装置以从电子枪发射的电子束照射在形成于基片上的抗蚀剂层，所述电子束照射装置包括：

用于支持要用所述电子束照射的基片的支持部分，

经微小间隔与所述主体相对的头，所述头具有电子束发射孔，用于以所述电子束照射所述基片，

围绕与所述电子束发射孔相通的电子束路径在所述电子束照射头中形成至少一个环形吸气槽，所述环形吸气槽从面对所述体的所述电子束照射头的表面打开，

连接于所述电子束路径和所述环形吸气槽的抽气装置，把所述电子束路径维持在高真空状态。

13．一种使用电子束照射装置制造的记录媒体，所述电子速照射装置以从电子枪发射的电子束照射在形成于基片上的抗蚀剂层，所述电子束照射装置包括：

用于支持要用所述电子束照射的基片的支持部分，

经微小间隔与所述主体相对的头，所述头具有电子束发射孔，用于以所述电子束照射所述基片，

围绕与所述电子束发射孔相通的电子束路径在所述电子束照射头中形成至少一个环形吸气槽，所述环形吸气槽从面对所述体的所述电子束照射头的表面打开，

连接于所述电子束路径和所述环形吸气槽的抽气装置，把所述电子束路径维持在高真空状态。