[发明专利]电子束照射装置、电子束照射方法、原版盘、压模和记录媒体

说明书

本发明涉及电子束照射装置，例如在通过使用注射膜、2P方法(光致聚合作用)等形成光记录媒体、光磁记录媒体、相变记录媒体、磁记录媒体等的原版盘制造中用于把电子束用于抗蚀剂的图案照射的电子束蚀刻的照射装置。本发明还涉及电子束照射方法、原版盘、压模和记录媒体。

在最近几年，各种信息记录媒体，如光盘、磁光盘和相变光盘要求有更高密度。要求形成细小数据记录坑和槽，如记录媒体上的轨道槽。

结果，要求在上述原版盘的制造中还形成细小不均衡图案。

在这种原版盘的制造期间，对涂覆并形成在基片上的抗蚀剂层进行激光图案曝光。通过显影，在抗蚀剂层上形成细小图案。例如，在其上进行镍电镀。形成具有精细图案的相反图案的压模，或形成用于制造压模的母压模或原版压模。

以这种方法，通过例如基片沿着基片表面的旋转引起的激光光斑与基片之间的相对运动和例如基片沿着基片表面的单向移动，抗蚀剂层的顶部用螺旋形式或同心形式的光斑来扫描。当这样进行扫描时，通过记录信号调制激光。从进行而记录图案的曝光。

但是在应用使用激光的曝光方法时，光斑直径有限制，这是由于激光波长引起的光学限制，并且在形成充分细小的图案时会出现问题。

另一方面，在使用电子束时，可实施更细小的图案。

但是在使用该电子束曝光时，需要在真空室内工作以防止电子束与空气分子相碰撞而被散射，因此装置尺寸变大。另外，由于上述基片旋转、运动驱动机构、信号引线真空密封等使得结构复杂化。这样引发装置价格的提高。因此，例如上述原版盘的成本提高并且从而引起记录媒体的成本提高。

与此相对，例如在日本公开专利11-288529和11-328750中已经提出了能够避免使用这种大型真空室的装置。在提出的装置中，在电子光学镜筒中提供能够发射电子束的光阑以仅在容纳电子枪会聚透镜、偏转装置、聚焦调整装置等的电子束柱体内部保持真空。电子束适合于通过一个空间，在该空间中，在电子束柱体和具有抗蚀剂层的基片的配置部分之间的短路径中提供氦气。基片的配置部分，即基片的旋转和运动机构部分设置在空气中。这样减少了维持在高真空状态的部分。从而降低了该装置的尺寸并且简化了该装置。

在使用上述的其中部分空间由光阑做成真空的配置的情况下，对于光阑选择容易发射电子束的材料和厚度。电子束由光阑散射并且在到达电子束曝光表面即抗蚀剂层的空间中与气体分子碰撞。因此，妨碍了形成更细小图案。

本发明提供一种电子束照射装置、电子束照射方法、原版盘、压模和记录媒体，从而可有效地避免电子束的这种散射并避免了提供大规模的真空室。

换言之，在上述原版盘制作中，电子束照射装置、原版盘、压模和记录媒体可能在形成于基片上的抗蚀剂层上形成细小图案，降低装置的尺寸，促进处理，改善可靠性并降低成本。

图1是根据本发明的电子束照射装置的一个例子的简单配置图；

图2是根据本发明的电子束照射装置的一个例子的主要部分的简单配置图；

图3是根据本发明的电子束照射装置的一个例子的电子束照射头的底视图；

图4A到4D是使用本发明用于记录媒体制造的原版盘制造的制造过程图。

根据本发明的电子束照射装置包括用于支持要用电子束照射的电子束照射体的支持部分和经微小间隔与电子束照射体相对的电子束照射头，该头具有电子束发射孔，用于以电子束照射电子束照射体。

在电子束照射头中，提供与电子束发射孔相通的电子束路径，并且此外，围绕电子束发射孔形成从面对电子束照射体的电子束照射头打开的至少一个环形吸气槽。把抽气装置，即真空泵连接于电子束路径和环形吸气槽，并且把电子束路径维持在高真空状态。

换言之，在本发明的配置中，把与用于电子束照射体的电子束发射孔相通的电子束路径抽真空，并把电子束路径维持在真空状态。围绕电子束发射孔提供环形吸气槽。从这里，电子束照射头与电子束照射体之间的微小间隔部分中的气体，并且尤其是存在于电子束发射孔附近的气体被排除。由于这种配置，带来的效果是进入到电子束发射孔的气体和存在于电子束发射孔与电子束照射体之间的空间中的气体被有效排除。

以这种方式，电子束照射头中的电子束路径可维持在高真空状态。另外，从电子束发射孔到电子束照射体的飞行路径也维持在高真空状态。

因此，可有效避免由光阑引起的电子束散射和在电子束的飞行期间由与气体分子碰撞引起的电子束散射。

图1是执行根据本发明的电子束照射装置的模式的一个例子的简单配置图。