[发明专利]抗反射光学多层薄膜

权利要求书

1.一种具有透明导电膜为最外层的抗反射光学多层薄膜，此抗反射光学多层薄膜具有五层结构且在一基板上形成，此5层结构包含由远离基板方向算起之第一层、第二层、第三层、第四层及第五层多层结构；其特征在于

该第一层位于该第二层上，为具有高折射率的氧化物，其实体厚度为10-60nm；

该第二层位于该第三层上，为具有低折射率的氧化物，其实体厚度为10-70nm；

该第三层位于该第四层上，为具有高折射率的氧化物，其实体厚度为30-100nm；

该第四层位于该第五层上，为具有低折射率的氧化物，其实体厚度为10-70nm；

该第五层位于该基板上，为具有高折射率的氧化物，其实体厚度为10-60nm。

2.根据权利要求1记载的抗反射光学多层薄膜，其特征在于所述基板为塑料板，其材料为PC、PMMA、PET、ARTON等。

3.根据权利要求1记载的抗反射光学多层薄膜，其特征在于所述基板为玻璃。

4.根据权利要求1记载的抗反射光学多层薄膜，其特征在于所述第一层材料为ITO；第二及第四层材料为SiO₂；第三及第五层材料为NbO。

5.根据权利要求1记载的抗反射光学多层薄膜，其特征在于所述第一层材料可为ITO，SnO₂，ZnO，In₂O₃，SnO₂∶F，SnO₂∶Sb，ZnO∶Al，In₂O₃∶ZnO，SnO₂∶ZnO及In₂O₃∶MgO。

6.根据权利要求1记载的抗反射光学多层薄膜，其特征在于所述第二及第四层材料可为SiO₂及SiAlO₂。

7.根据权利要求1记载的抗反射光学多层薄膜，其特征在于所述第三及第五层材料可为ITO，Ta₂O₅，NbO，TiO，Al₂O₃，SiN，SiNO，AlN，AlNO，及其混合物。

8.根据权利要求1记载的抗反射光学多层薄膜，其特征在于所述第五层材料可为TaO，NbO，TiO，Al₂O₃，SiN，SiNO，AlN，AlNO，及其混合物。

9.根据权利要求1记载的抗反射光学多层薄膜，其特征在于所述第一层为氧化物层，折射率为1.9-2.1；第二及第四层为氧化物层，折射率为1.46-1.5；第三及第五层为氧化物层，折射率为2.1-2.3。

10.根据权利要求1记载的抗反射光学多层薄膜，其特征在于所述多层由批次式或连续式生产之蒸镀或溅镀系统制成。

11.根据权利要求1记载的抗反射光学多层薄膜，其特征在于可应用于LCD，CRT及触摸式面板等显示器相关行业。