[发明专利]抗反射光学多层薄膜

说明书

本发明涉及一种用于塑料或是玻璃基板的光学多层薄膜，特别是涉及一种最外层为高折射率透明导电膜的高抗反射光学多层薄膜。

美国专利US 4,921,790揭示一种多层抗反射膜，具有在CeO₂及合成树脂之间有优异的附着力。此多层膜系统包含CeO₂，Al₂O₃，ZrO₂，SiO₂，TiO₂及Ta₂O₅。在此多层膜系统的所有薄膜皆为氧化物材料，且此多层膜系统具有3到5层薄膜。依据其所列举的一个实例，其多层膜系统具有5层结构，总厚度为3580埃。此薄膜系统的表面层为SiO₂，在光学设计上是一种低折射率材料，其折射率在波长为550nm时为1.46。

美国专利US 5,105,310揭示一种多层抗反射膜，可以藉由反应溅镀法而于连续式真空镀膜机械中生产。此多层膜系统包含TiO₂，SiO₂，ZnO，ZrO₂及Ta₂O₅。在此多层膜系统的所有薄膜皆为氧化物材料，且此多层膜系统具有4到6层薄膜。依据其所列举的一个实例，其多层膜系统具有6层结构，总厚度为4700埃。此薄膜系统之表面层为SiO₂，在光学设计上是一种低折射率材料，其折射率在波长为550nm时为1.46。

美国专利US 5,091,244及US 5,407,733揭示一种新型的导电、光衰减及抗反射多层膜。其主要专利范围为提供一种导电、光衰减及抗反射光学多层膜材料与结构。其多层膜系统包含TiN，NbN，SnO₂，SiO₂，Al₂O₃，及Nb₂O₅。此多层膜系统的所有薄膜皆为氧化物或是氮化物材料，且此多层膜系统具有3到4层薄膜。依据其所列举的一个实例，其多层膜系统具有4层结构，总厚度为1610埃，且对于可见光之透光率低于50％。此薄膜系统之表面层为SiO₂，在光学设计上是一种低折射率材料，其折射率在波长为550nm时为1.46。

美国专利US 5,147,125揭示一种多层抗反射膜，具有氧化锌以提供波长小于380nm时的抗紫外线效果。此多层膜系统包含TiO₂，SiO₂，ZnO及MgF₂。此多层膜系统的所有薄膜皆为氧化物或是氟化物材料，且此多层膜系统具有4到6层薄膜。依据其所列举的一个实例，其多层膜系统具有5层结构，总厚度为7350埃。此薄膜系统之表面层为MgF₂，在光学设计上是一种低折射率材料，其折射率在波长为550nm时为1.38。

美国专利US 5,170,291揭示一种四层薄膜系统，具有光学作用且有高抗反射效果。此多层膜系统可以用热解法、电浆辅助化学蒸汽沉积法、溅镀方法或是化学沉积方法形成。此多层膜系统包含TiO₂，SiO₂，Al₂O₃，ZnS，MgO，及Bi₂O₃。依据其所列举的一个实例，其多层膜系统具有4层结构，总厚度为2480埃。此薄膜系统之表面层为SiO₂，在光学设计上是一种低折射率材料，折射率在波长为550nm时为1.46。

美国专利US 5,216,542揭示一种五层薄膜系统，具有高抗反射效果。其包含一个厚度约为1nm，材料为Ni，Cr或是NiCr的附着层，另外四层材料可以包含SnO₂，ZnO，Ta₂O₅，NiO，CrO₂，TiO₂，Sb₂O₃，In₂O₃，Al₂O₃，SiO₂，TiN及ZrN。依据其所列举的一个实例，其薄膜系统具有5层结构，总厚度为2327埃，且对于可见光之透光率低于30％。此薄膜系统之表面层为SiO₂，在光学设计上是一种低折射率材料，其折射率在波长为55Onm时为1.46。