[发明专利]膏料、显示器部件和显示器部件的制造方法有效
申请号: | 01119177.5 | 申请日: | 2001-05-23 |
公开(公告)号: | CN1325038A | 公开(公告)日: | 2001-12-05 |
发明(设计)人: | 植垣博子;田畑宪一;正木孝树;高桥宏光;田中明彦;桥本充代 | 申请(专利权)人: | 东丽株式会社 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;H01J9/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 杨宏军 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 膏料 显示器 部件 制造 方法 | ||
1.一种膏料,其中含有聚氨酯化合物和无机微粒。
2.权利要求1中所述的膏料,其中,膏料中的无机微粒的含量为40重量%~80重量%。
3.权利要求1中所述的膏料,其中,聚氨酯化合物中包括含乙烯性不饱和基团的聚氨酯化合物。
4.权利要求1中所述的膏料,其中,聚氨酯化合物的分子量为15000~50000。
5.权利要求1中所述的膏料,其中,膏料中的聚氨酯化合物的含量为0.1重量%~20重量%。
6.权利要求1中所述的膏料,其中,聚氨酯化合物中含有环氧乙烷单元。
7.权利要求1中所述的膏料,其中,聚氨酯化合物由下述通式(1)表示:
R1-(R4-R3)n-R4-R2 (1)R1和R2选自含有乙烯性不饱和基团的取代基、氢、碳原子数1~20的烷基、芳基、芳烷基和羟代芳烷基,可以相同或不同,R3为环氧化物基或环氧化物低聚物,R4为含有氨酯键的有机基团,n为1~10的自然数。
8.权利要求7中所述的膏料,其中,R3为含有环氧乙烷单元和环氧丙烷单元的低聚物,且该低聚物中的环氧乙烷单元含量在8~70重量%的范围内。
9.权利要求1中所述的膏料,其中,还含有含乙烯性不饱和基团的胺化合物。
10.权利要求9中所述的膏料,其中,胺化合物为下述通式(3)或(4)表示的化合物。
R5R6R7N (3)
R5R6N-M-NR7R8 (4)其中,R5为含乙烯性不饱和基团的取代基,R6、R7、R8选自含乙烯性不饱和基团的取代基、氢、碳原子数1~20的烷基、芳基、芳烷基和羟烷基,R6、R7、R8可以相同或不同,M表示2价的连接基团。
11.权利要求1中所述的膏料,其中,还含有具有羧基的聚合物。
12.权利要求11中所述的膏料,其中,具有羧基的聚合物中含有乙烯性不饱和基团。
13.权利要求1中所述的膏料,其中无机微粒含有荷重软化温度为450~600℃的低融点玻璃粉末。
14.权利要求1中所述的膏料,其中,无机微粒中含有60重量%~97重量%的低熔点玻璃粉末和3重量%~40重量%的平均粒径1μm~4μm的填料。
15.权利要求14中所述的膏料,其中,无机微粒中还含有30重量%以下的平均粒径0.003~0.02μm的氧化物微粒。
16.权利要求1中所述的膏料,其中,升温到500℃和1000℃时的重量由下述公式表示。
(500℃时的重量)/(1000℃时的重量)≤1.05
17.一种膏料,在硅片上涂布权利要求1中所述的膏料并形成薄膜后,在升温到500℃时,由该薄膜收缩产生的硅片翘曲量计算出来的平均膜应力的最大值为0.1~20MPa。
18.权利要求1中所述的膏料,其中,膏料为感光性膏料。
19.权利要求18中所述的膏料,膏料中的乙烯性不饱和键的浓度,对于活性光线照射前的每1kg膏料来说,为0.2~1.0mol。
20.权利要求1中所述的膏料,用于显示器用途。
21.权利要求20中所述的显示器用膏料,其中,显示器为等离子体显示器。
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