[发明专利]废液处理法、其所用处理装置、洗剂分离装置和所用的洗涤和干洗装置无效
申请号: | 01138508.1 | 申请日: | 2001-10-06 |
公开(公告)号: | CN1349931A | 公开(公告)日: | 2002-05-22 |
发明(设计)人: | 室井国昌;长崎洋一;大泽晶;伊藤刚;山本润 | 申请(专利权)人: | 雅马哈株式会社 |
主分类号: | C02F1/00 | 分类号: | C02F1/00;C02F11/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 范明娥,张平元 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 废液 处理 所用 装置 洗剂 分离 洗涤 干洗 | ||
1.一种溶剂分离装置,其特征在于包括:导入氯系有机溶剂和水的混合物的导入部和,具有由分离上述混合物的疏水性和/或亲油性的多孔质材料构成的分离部件的分离部和,排出该分离部分离的水的排水部和,排出该分离部分离的氯系有机溶剂的排液部。
2.一种溶剂分离装置,其特征在于包括:导入氯系有机溶剂和水的混合物的导入部和,具有由分离上述混合物的疏水性和/或亲油性的多孔质材料构成的分离部件的分离部和,排出该分离部分离的水的排水部和,向该分离部分供给空气的供给部和,排出空气和/或气化的氯系有机溶剂的排气部。
3.权利要求1所述的溶剂分离装置,其特征在于上述分离部件的形状是膜状、板状、管状、容器状或者颗粒状。
4.一种干洗装置,其特征在于采用权利要求1所述的溶剂分离装置。
5.一种废液处理方法,其特征在于包括:分离废液中氯系有机溶剂的溶剂分离过程和,把上述溶剂分离处理后的废液中残存的氯系有机溶剂加以气化的气化处理过程和,把上述废液中气化的气化气体加以光氧化分解的光氧化分解处理过程和,把通过上述光氧化分解生成的分解生成气体加以吸附、吸收、中和的后处理过程。
6.权利要求5所述的废液处理方法,其特征在于在上述气化处理过程的前段设置上述溶剂分离过程。
7.权利要求5所述的废液处理方法,其特征在于把上述溶剂分离过程作为与疏水性和/或亲油性的多孔质材料构成的分离部件接触并吸附废液中的氯系有机溶剂的过程。
8.权利要求5所述的废液处理方法,其特征在于上述气化处理过程为曝气方式。
9.权利要求7所述的废液处理方法,其特征在于上述气化处理过程兼作把上述多孔质材料制成的分离部件吸附的氯系有机溶剂加以气化的过程。
10.一种废液处理装置,其特征在于包括:把废液中氯系有机溶剂加以分离的溶剂分离部和,把上述溶剂分离处理后的废液中残存的氯系有机溶剂加以气化的气化处理部和,把从上述废液中气化的气化气体加以光氧化分解的光氧化分解处理部和,把通过上述光氧化分解所生成的分解生成气体加以吸附、吸收、中和的后处理部和,控制各部分操作的控制部。
11.采用权利要求10所述的废液处理装置的洗涤装置。
12.采用权利要求10所述的废液处理装置的干洗装置。
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