[发明专利]单基光敏成像体系无效

专利信息
申请号: 01141285.2 申请日: 2001-08-10
公开(公告)号: CN1355445A 公开(公告)日: 2002-06-26
发明(设计)人: 内堀孝博;樋口徹也 申请(专利权)人: 塞科拉系统株式会社
主分类号: G03C1/73 分类号: G03C1/73;G03C1/76;G03C5/00;G03B27/04
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 任宗华
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 光敏 成像 体系
【权利要求书】:

1.一种自含式光敏材料,包括:

载体;

在载体上的成像层,所述成像层包含显影剂材料和多个包封有光敏组合物和色料前体的光敏微囊;和

在成像层上的保护涂层,所述保护涂层包括水溶性或水分散性树脂的固化膜,

其中,通过以成像方式将成像层暴露于光化辐射并使微囊破裂,色料前体从微囊中释放并与显影剂材料反应形成彩色图像。

2.根据权利要求1的光敏材料,其中所述水溶性或水分散性树脂是丙烯酸系胶乳。

3.根据权利要求1的光敏材料,其中所述保护涂层还包含交联剂。

4.根据权利要求3的光敏材料,其中所述交联剂是多价醛。

5.根据权利要求4的光敏材料,其中所述多价醛选自乙二醛、戊二醛及其衍生物。

6.根据权利要求5的光敏材料,其中所述水溶性树脂是丙烯酸系胶乳且所述交联剂是乙二醛。

7.根据权利要求1的光敏材料,其中所述光敏材料还包括在所述载体和所述成像层之间的附属层。

8.根据权利要求1的光敏材料,其中所述光敏材料还包括不溶粘料。

9.根据权利要求8的光敏材料,其中所述不溶粘料是一种由通式(I)、(II)或(III)表示的化合物:

其中R1和R2相同或不同且表示H、OH、烷基(C1-C10)、羟烷基、多羟基取代的烷基、烷基羰基氧基烷基、链烯基(C2-C10)羰基氧基烷基、或具有羧基、羧基盐或羧基酯基团作为端基的羰基氧基烷基;

其中R3是H、OH、烷基(C1-C10)、羟烷基、多羟基取代的烷基、烷基羰基氧基烷基、或链烯基(C2-C10)羰基氧基烷基,n1=2-4且Z1是:

如果形成二恶烷,而如果不形成二恶烷,Z1表示H原子以形成二醇;或

其中R4是H、OH、烷基(C1-C10)、羟烷基、多羟基取代的烷基、烷基羰基氧基烷基、或链烯基(C2-C10)羰基氧基烷基;R5是-CH2-或-CH(OH)-;n2、n3、n4每一个为1或2且Z2与以上的Z1相同。

10.根据权利要求8的光敏材料,其中所述不溶粘料存在于所述成像层中。

11.根据权利要求8的光敏材料,其中所述不溶粘料存在于所述保护涂层中。

12.根据权利要求9的光敏材料,其中所述不溶粘料选自以下的化合物:

13.根据权利要求12的光敏材料,其中所述不溶粘料是:

14.根据权利要求8的光敏材料,其中所述不溶粘料的存在量为基于保护涂层和成像层总干重的约0.5-10%。

15.根据权利要求1的光敏材料,其中所述载体是一种包含白色颜料的不透明聚对苯二甲酸乙二醇酯膜。

16.根据权利要求1的光敏材料,其中所述成像层还包含粘结剂。

17.根据权利要求16的光敏材料,其中所述粘结剂是一种改性丙烯酸酯胶乳。

18.根据权利要求1的光敏材料,其中所述保护涂层包含以干重计约60-80%的水溶性或水分散性树脂和约4-10%的交联剂。

19.根据权利要求1的光敏材料,其中所述保护涂层还包含UV吸收剂。

20.根据权利要求1的光敏材料,其中所述保护涂层的厚度为约4-15微米。

21.根据权利要求1的光敏材料,其中所述成像层包括一层微囊和单独层的显影剂材料。

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