[发明专利]单基光敏成像体系

说明书

本发明涉及美国专利4399209和4440846中所述种类的光敏成像体系的改进，其中光敏成像体系包括保护涂层。

采用微囊包封辐射敏感组合物的成像体系是普通转让的美国专利4399209、4416966、4440846、4766050、5783353、6030740、6037094和6080520的主题。这些成像体系的特征在于将包括在内相中包含光可硬化组合物的微囊层的成像片材以成像方式暴露于光化辐射。在最典型的实施方案中，光可硬化组合物是一种包括多烯属不饱和化合物和光引发剂的光可聚合组合物且成色剂被光可聚合组合物包封。光化辐射曝光能够硬化微囊的内相。曝光之后，成像片材通过在显影剂的存在下经受均匀破裂力而显影。其中显影剂材料涂覆在单独基材上作为单独显影剂或复制片材的图像转移体系公开于普通转让的美国专利4399209。其中包封的成色剂和显影剂材料存在于一层或两个相互作用层中的自含式成像体系公开于普通转让的美国专利4440846。具有不透明载体的自含式成像体系公开于普通转让的美国专利6080520。双面成像材料公开于普通转让的美国专利6030740。

普通转让的美国专利5783353公开了一种自含式成像体系，其中成像层密封在两个载体之间以形成一个整体单元。该密封形式的优点在于它能够降低氧透过并提高介质的稳定性尽管该密封形式能提高介质稳定性，但成像层和载体之间使用的某些粘合剂可造成成像层的脱色。

按照本发明，提供了一种自含式光敏材料，包括光敏微囊和显影剂在载体上的成像层和在成像层上的保护涂层。包含水溶性或水分散性树脂的保护涂层可赋予成像介质以耐刮性和耐水性。该保护涂层也可包括交联剂。

在本发明的另一实施方案，自含式光敏材料包括载体、在载体上的成像层、和在成像层上的保护涂层，其中成像层包括一层光敏微囊、和在与微囊相同或不同层中的显影剂。

在本发明的一个更特殊的实施方案中，该保护涂层包含丙烯酸系胶乳和多醛交联剂。

在本发明的另一实施方案中，不溶粘料存在于至少一成像层和保护涂层中。用于本发明的不溶粘料在各种储存条件下提高光敏材料的稳定性。尤其是，不溶粘料能够提高成像介质的湿度稳定性。

图1是本发明成像体系的横截面视图。

图2是在曝光和微囊破裂之后的图1的横截面视图。

美国专利4399209、4440846、5783353、6030740、6037094和6080520在此作为参考并入本发明，但不要与本文的教导矛盾。

本发明的改进成像体系可具体为一种自含式复制片材，其中光敏微囊和显影剂材料共沉积在一层或两相互作用层中，例如描述于美国专利5783353。本发明的成像体系还具体为一种双面自含式体系，其中微囊和显影剂处于刚才在不透明载体的双面时描述的一层或单独层中。每一种体系可以按照如上所述的方法通过照相控制显色材料与显影剂之间的接触来进行操作。在自含式成像体系中，在胶囊破裂之后，显色材料和显影剂能够在未曝光区域中反应形成一种可见图像可见图像在曝光和胶囊破裂之后随着显色材料从微囊中渗出而逐步显影。在最典型的实施方案中，胶囊破裂通过使用压力辊或辊球将压力施加到成像片材上来进行。为了记录图像成像材料可用LED印刷头或LCD设备进行扫描并通过将压力施用到该单元上而显影。该介质可使用一种描述于美国专利5550627的装有LED/显影剂头的印刷机而成像。

按照本发明，光敏材料包括在成像层上的保护涂层。该涂层作为溶液或分散体直接施用到成像层上，然后干燥或固化形成保护涂层。该保护涂层具有许多与公开于美国专利5783353的密封自含式成像介质中的第二载体相同的作用。尤其是，保护涂层赋予成像介质以耐水性和耐刮性。另外，避免在密封于双面上的成像介质中将粘合剂用于第二载体能够提高成像的湿度稳定性。本发明一个实施方案的保护涂层通常包含水溶性或水分散性树脂和交联剂。在本发明的一个特殊实施方案中，保护涂层包含丙烯酸系胶乳和多醛交联剂如乙二醛。

按照本发明的另一实施方案，不溶粘料处于至少一成像和保护涂层中。该不溶粘料进一步提高了成像介质的湿度稳定性。尽管不愿受限，但申请人相信，不溶粘料通过与用于成像层和保护涂层中的粘结剂体系中的活性基团反应而提高湿度稳定性。