[发明专利]蚀刻液组合物有效
| 申请号： | 01142051.0 | 申请日： | 2001-09-07 |
| 公开（公告）号： | CN1346864A | 公开（公告）日： | 2002-05-01 |
| 发明（设计）人： | 石川典夫;森清人 | 申请（专利权）人： | 关东化学株式会社 |
| 主分类号： | C09K13/04 | 分类号： | C09K13/04 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 过晓东 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 蚀刻 组合 | ||
【权利要求书】：
1、一种蚀刻液组合物，该组合物含有透明导电膜用蚀刻液，以及从聚磺酸化合物和聚氧化乙烯-聚氧化丙烯嵌段共聚物构成的物质组中选取的一种或两种以上的化合物。
2、根据权利要求1的组合物，其特征在于，透明导电膜为氧化铟锡(ITO)膜。
3、根据权利要求1或2的组合物，其特征在于，透明导电膜用蚀刻液为草酸水溶液。
4、根据权利要求1-3任一的组合物，其特征在于，从聚磺酸氧化物以及聚氧化乙烯-聚氧化丙烯嵌段聚合物构成的物质组中选取的一种或两种以上的化合物的浓度为0.0001-10质量％。
5、根据权利要求1-4任一的组合物，其特征在于，聚磺酸化合物是选自于：萘磺酸甲醛缩合物及其盐、聚苯乙烯磺酸及其盐、以及木质磺酸及其盐中的一种或两种以上。
6、根据权利要求1-5任一的组合物，其特征在于，还含有磺酸盐型阴离子表面活性剂。
7、根据权利要求1-6任一的组合物，其特征在于，还含有水溶性低级醇。
8、根据权利要求7的组合物，其特征在于，水溶性低级醇是选自于：甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇以及正丁醇中选取的一种或两种以上。
9、根据权利要求7或8的组合物，其特征在于，水溶性低级醇的浓度为1-10质量％。
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