[发明专利]有机EL显示装置的制造装置以及使用其制造有机EL显示装置的方法

权利要求书

1、有机EL显示装置的制造装置，所说的制造装置是用于制造支持基板上至少具有下部电极、有机发光介质和上部电极，同时周围用密封用部件密封的有机EL显示装置的制造装置，其特征在于包括：

用于搬入上述支持基板的第1单元，

用于在上述有机发光介质形成前至少加热支持基板进行脱水处理的第2单元，

用于形成上述有机发光介质和上部电极的第3单元，

和用于通过上述密封用部件密封周围的第4单元，

同时在各单元之间设有搬送装置。

2、如权利要求1所述的有机EL显示装置的制造装置，其特征在于，在上述第2单元和第3单元之间设置上述第1单元。

3、如权利要求1或2所述的有机EL显示装置的制造装置，其特在于，上述第2单元由加热室和冷却室构成。

4、如权利要求1～3中任意一项所述的有机EL显示装置的制造装置，其特征在于，上述第2单元中设有惰性气体循环装置、减压装置和冷却装置中的至少一种。

5、如权利要求1～4中任意一项所述的有机EL显示装置的制造装置，其特征在于，上述第1单元中设有惰性气体循环装置、减压装置和冷却装置中至少一种。

6、如权利要求1～5中任意一项所述的有机EL显示装置的制造装置，其特征在于，上述第4单元与上述第1单元连接。

7、如权利要求1～5中任意一项所述的有机EL显示装置的制造装置，其特征在于，共用上述第2单元与上述第4单元。

8、如权利要求1～7中任意一项所述的有机EL显示装置的制造装置，其特征在于，上述第3单元是具有用于对多数试样同时或依次进行蒸镀的多个蒸镀源的真空蒸镀装置。

9、如权利要求1～8中任意一项所述的有机EL显示装置的制造装置，其特征在于，上述第3单元包括缓冲室、真空蒸镀装置和溅镀装置。

10、如权利要求1～9中任意一项所述的有机EL显示装置的制造装置，其特征在于，上述第3单元进一步包括等离子体洗涤装置。

11、使用权利要求1所述的制造装置制造有机EL显示装置的方法，其特征在于包括以下工序：

将支持基板搬入第1单元，

使用搬送装置，将搬入的支持基板从第1单元移送至第2单元，

在第2单元中，加热移送的支持基板，进行脱水处理，

使用搬送装置，将脱水处理后的支持基板从第2单元移送至第3单元，

在第3单元中，形成有机发光介质和上部电极，

使用搬送装置，将形成了有机发光介质和上部电极的支持基板从第3单元移送至第4单元，

在第4单元中，用密封用部件密封周围。

12、如权利要求11所述的制造有机EL显示装置的方法，其特在于，上述第2单元包括加热室和冷却室，在该加热室中，加热上述支持基板进行脱水处理，同时在该冷却室中，对脱水处理后的支持基板进行冷却。

13、使用权利要求2所述的制造装置制造有机EL显示装置的方法，其特征在于包括以下工序，

将支持基板搬入第1单元，

使用搬送装置，将搬入的支持基板从第1单元移送至第2单元，

在第2单元中，加热移送的支持基板，进行脱水处理，

使用搬送装置，将脱水处理后的支持基板从第2单元通过第1单元移送至第3单元，

在第3单元中，形成有机发光介质和上部电极，

使用搬送装置，将形成了有机发光介质和上部电极的支持基板从第3单元移送至第4单元，

在第4单元中，用密封用部件密封周围。

14、使用权利要求6所述的制造装置制造有机EL显示装置的方法，其特征在于包括以下工序，

将支持基板搬入第1单元，

使用搬送装置，将搬入的支持基板从第1单元移送至第2单元，

在第2单元中，加热移送的支持基板，进行脱水处理，

使用搬送装置，将脱水处理后的支持基板从第2单元通过第1单元移送至第3单元，

在第3单元中，形成有机发光介质和上部电极，

使用搬送装置，将形成了有机发光介质和上部电极的支持基板从第3单元通过第1单元移送至第4单元，

在第4单元中，用密封用部件密封周围。