[发明专利]聚合方法

权利要求书

1.一种制备水溶性或水可溶胀性的聚合物的方法，包括以下步骤，

(a)形成一种水溶液混合物，其中包含：

(i)一种水溶性的烯属不饱和单体或单体的掺合物；和

(ii)一起紫外引发剂，

(b)通过把步骤(a)中形成的水溶液混合物置于聚合条件下来实现聚合，以形成所说的单体或单体掺合物的聚合物，其中紫外引发剂是分布在整个聚合物中，

(c)把在步骤(b)中形成的聚合物置于紫外光辐照下，其特征为聚合步骤(b)基本上是在不存在紫外辐射的条件下实施的。

2.权利要求1的方法，其中聚合步骤(b)是通过合适的选自氧化还原引发剂和热引发剂这类聚合引发剂来实现的。

3.权利要求1或权利要求2的方法，其中在步骤(c)中的聚合物被置于强度高至500毫瓦的紫外光辐照条件下。

4.权利要求1至3中任何一项的方法，其中的聚合物是由丙烯酰胺形成的。

5.权利要求1至4中任何一项的方法，其中聚合物具有至少为4dl/g的特性粘数。

6.权利要求1至5中任何一项的方法，其中聚合物是通过溶液聚合形成的。

7.权利要求1至6中任何一项的方法，其中的紫外引发剂是可溶于或可分散于含水单体或单体掺合物中的。

8.权利要求1至7中任何一项的方法，其中的紫外引发剂是具有下式的化合物：其中R₁和R₂各自独立地是C_1-3烷基或它们在一起形成一个C_4-8脂环族的环，R₃是H、C_1-2烷基或-O(CH₂CH₂)_nOH，并且n值为1-20。

9.权利要求8的方法，其中的紫外引发剂是具有下式的化合物：

10.权利要求8的方法，其中的紫外引发剂是具有下式的化合物：

11.权利要求1至10中任意一项的方法，其中步骤(c)是和干燥步骤同时进行的。

12.一种降低水溶性或水可溶胀性聚合物中残余单体含量的方法，包括把聚合物在一种紫外引发剂存在的条件下置于紫外辐射下。

13.权利要求12的方法，其中的聚合物是特性粘数在4dl/g以上的丙烯酰胺的聚合物。

14.权利要求12或权利要求13的方法，其中的紫外引发剂是具有下式的化合物：其中R₁和R₂各自独立地是C_1-3烷基或者它们在一起形成一个C_4-8脂环族的环，R₃是H、C_1-2烷基或-O(CH₂CH₂)_nOH，并且n值为1-20。

15.权利要求14的方法，其中的紫外引发剂是具有下式的化合物：

16.权利要求15的方法，其中的紫外引发剂是具有下式的化合物：

17.一种制备水溶性或水可溶胀性的聚合物的方法，包括以下步骤：

(a)形成一种水溶液混合物，其中包含：

(i)一种水溶性的烯属不饱和单体或单体的掺合物，

(ii)一种紫外引发剂，

(b)通过把步骤(a)中形成的水溶液混合物置于聚合条件下，以形成所说的单体或单体掺合物的聚合物，

(c)把步骤(b)中形成的聚合物置于强度高至500毫瓦的紫外光辐射条件下，其特征为聚合步骤(b)基本上是在不存在紫外辐照的条件下实施的。

18.权利要求17的方法，其中紫外光辐射的强度为高至50毫瓦。

19.通过权利要求1至11、17或18中任意一项定义的方法或权利要求12至16中任意一项的方法获得的水溶性或水可溶胀性聚合物，其中残余单体的含量在100ppm以下。