[发明专利]倾斜式除液装置无效
申请号: | 01804684.3 | 申请日: | 2001-12-07 |
公开(公告)号: | CN1398428A | 公开(公告)日: | 2003-02-19 |
发明(设计)人: | 下田亨志;田内仁 | 申请(专利权)人: | 住友精密工业株式会社 |
主分类号: | H01L21/68 | 分类号: | H01L21/68;B65G49/06;H01L21/306;B08B13/00 |
代理公司: | 北京三幸商标专利事务所 | 代理人: | 刘激扬 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 倾斜 装置 | ||
技术领域
本发明涉及液晶显示装置用玻璃基板的制造等中使用的传送式基板处理装置,特别涉及在该基板处理装置中,通过使基板倾斜,从基板的表面上排除处理液的倾斜式除液装置。
背景技术
液晶显示装置中使用的玻璃基板,通过对作为基材的玻璃基板的表面反复实施腐蚀、剥离等化学处理来制造。该处理装置大致分为干式和湿式;湿式又分为比量式和叶片式;叶片式又分为旋转式和基于滚轮传送等的传送式。
在这些基板处理装置中,传送式的装置具有将基板向水平方向传送同时对该基板的表面供给处理液的基本结构,由于效率高,所以被用于腐蚀处理和剥离处理。
腐蚀处理上使用的传送式基板处理装置从在基板传送线的上方矩阵状配置的多个喷射喷嘴中喷射腐蚀液,通过使基板在该腐蚀液中通过,向基板的整个表面供给腐蚀液。通过该喷淋处理,除了涂敷了掩模材料的部分以外,基板的表面被有选择地腐蚀。
腐蚀后,通过从相同的喷嘴喷射的清洗水来清洗基板表面,但以抑制腐蚀处理的迅速停止、初期清洗中的清洗水的污染、降低初期清洗水的废弃量等为目的,在清洗前对基板表面残留的腐蚀液进行物理去除。作为除液装置之一,有使基板在传送中途暂时停止,向侧方倾斜,从表面上向侧方排除腐蚀液的倾斜式装置。剥离处理用的基板处理装置也同样进行药液处理、除液、水洗。
但是,在液晶显示装置用玻璃基板中,在基板的大型化的同时,电路的高精细化也在深入。作为在该基板上使用的布线材料,以前大多使用Cr,但随着目前的高精细化,正在转向使用电阻率值小的Al或Al/Mo。因此,即使腐蚀用的传送式基板处理装置,也开始使用Al腐蚀液,但随着使用该腐蚀液,发现产生以下的问题。
Al腐蚀液与Cr腐蚀液相比粘度高。因此,在腐蚀后倾斜式除液装置使基板倾斜时,除液性恶化。即,由于Al腐蚀液的表面张力大,所以即使通过基板的倾斜,表面上的腐蚀液也大量积存在侧缘部,在使基板返回到水平状态时,该腐蚀液再次在表面上扩大。
增大基板的倾斜角度是解决该问题的方向,但在基板大型化的现状中,由于设备间的干扰,所以难以增大基板的倾斜角度,而且,因增大倾斜角度,在其倾斜上需要时间,使用于除液的基板停止时间变长,所以存在不能增大基板的倾斜角度的制约。由于该制约,不可避免使用Al腐蚀液情况下的除液性的恶化,其结果,产生不能进行从腐蚀液向清洗水的迅速的液体置换,或增大初期清洗水的废弃量的问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种倾斜式除液装置,即使在处理液粘度高的情况下,也不增大基板的倾斜角度,可以从其表面高效率地排除处理液。
为了实现上述目的,本发明的倾斜式除液装置包括:除液装置主体,被配置在将基板向水平方向传送的同时向该基板的表面供给处理液处理该基板表面的传送式的基板处理传送线内,通过使基板倾斜,将处理液从基板上排除;以及除液促进机构,被配置在基板的倾斜方向下游侧,通过在基板的侧缘部整个长度上以规定间隔接触或接近的多个液体接触部件,来促进从基板上排除处理液,以便与随着基板的倾斜向倾斜方向下游侧流动滞留的基板上的处理液接触。
在本发明的倾斜式除液装置中,通过基板的倾斜将积存在侧缘部的处理液传送到在该侧缘部的整个长度上以规定间隔接触或接近的多个液体接触部件,从该侧缘部高效率地排除。
从排液性方面来看,所述液体接触部件与倾斜的基板的侧缘部上积存的处理液进行线接触或点接触较好,具体地说,最好是大致垂直的针状部件。此外,如果液体接触部件与倾斜的基板的侧缘部接触,则有切削侧缘部并产生异物的危险,所以与倾斜的基板的侧缘部接近的非接触式较好。
本发明的倾斜式除液装置特别适合于粘度高的Al腐蚀液,但对于其它腐蚀液、以及腐蚀以外的处理液也有效,只是存在效果上的某些差异。
附图说明
图1是使用本发明一实施例的倾斜式除液装置的传送式基板处理装置的俯视图;
图2是该倾斜式除液装置的俯视图;
图3是图2中的X-X箭头线所示的图。
具体实施方式
以下,根据附图来说明本发明的实施例。
使用本实施例的倾斜式除液装置的传送式基板处理装置为进行液晶显示装置用玻璃基板10(以下简称为基板10)的Al腐蚀处理的装置。如图1所示,该基板处理装置采用将直线状的第1传送线A、直角连接到第1传送线A的第2传送线B、直角连接到第2传送线B并与第1传送线A并列的第3传送线C组合而成的U转动式的布局。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于住友精密工业株式会社,未经住友精密工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/01804684.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:微量试样处理装置
- 下一篇:荧光灯及其制造方法、以及采用它的信息显示装置
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造