[发明专利]基板处理装置无效

专利信息
申请号: 02121836.6 申请日: 2002-06-07
公开(公告)号: CN1391138A 公开(公告)日: 2003-01-15
发明(设计)人: 菅长大辅;藤根修;关口明 申请(专利权)人: 住友精密工业株式会社
主分类号: G03F7/26 分类号: G03F7/26;G02F1/1333
代理公司: 北京三幸商标专利事务所 代理人: 刘激扬
地址: 日本国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 处理 装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及在液晶显示装置的玻璃基板的制造等中使用的传送式的基板处理装置。

背景技术

用于液晶显示装置的玻璃基板通过在作为素材的玻璃基板的表面上重复实施蚀刻、剥离等化学处理来制造。该处理装置大致分为干式和湿式,湿式又分为间歇式和叶片式。而且,叶片式被细分为旋转式和滚轮传送等的传送式。

在这些基板处理装置中,传送式的装置具有将基板大致向水平方向传送,同时对该基板的表面供给处理液的基本结构,由于效率高,所以从以前开始被用于蚀刻处理和剥离处理。

在用于蚀刻处理的传送式的基板处理装置中,从在基板传送线的上方矩阵状配置的多个喷射喷嘴中喷出蚀刻液,通过使基板在该蚀刻液中通过,向基板的整个表面供给蚀刻液。通过该喷淋处理,基板的表面除涂敷了掩模材料的部分被有选择地蚀刻。蚀刻结束,则继续通过喷淋进行清洗处理。用于剥离处理的也是基本相同地构成。

但是,液晶显示装置的玻璃基板在逐步大型化的同时电路逐步高精细化。作为该基板中使用的布线材料,以前大多使用Cr,但随着最近的高精细化,正在谋求向比电阻值较小的Al或Al/Mo转换。因此,即使是用于蚀刻的传送式基板处理装置,也开始使用Al用蚀刻液,而随着该蚀刻液的使用,已弄清产生以下的问题。

Al用蚀刻液与Cr用蚀刻相比为高粘度,对玻璃基板的表面的浸润性差。此外,比Cr用蚀刻液产生的Cr的蚀刻率高。因此,在喷淋处理开始时,对于干燥面来说,蚀刻液的细的液滴冲击过的部分成为处理不匀,即使其后的喷淋处理也不能消除,在蚀刻后残留处理不匀。

为了消除这种处理不匀,在喷淋处理前,使基板通过从缝隙喷嘴喷出的蚀刻液的膜中的液膜处理很有效。在使基板通过蚀刻液的膜中后,基板的表面无不匀地浸润。一旦无不匀地浸润,即使在其后受到喷淋处理,也会不产生液滴造成的处理不匀。

此外,即使蚀刻后接着进行水洗处理,为了迅速的液体置换,在喷淋处理前,使基板通过从缝隙喷嘴喷出的清洗水的膜中的液膜处理很有效。

但是,在喷淋处理前的这些液膜处理中,处理液强烈地冲击基板的表面,所以在基板的表面上等处理液扩散,有侵入到上游侧的处理部的危险。如果蚀刻液侵入到上游侧的处理部,则产生蚀刻等问题。此外,蚀刻液的损失增加,液体成本增大。如果清洗水侵入到上游侧的处理部、即侵入到蚀刻部,则蚀刻液被稀释,不能进行其循环使用,所以这种情况下液体成本增大。

如果增大从缝隙喷嘴至输入侧的处理部的距离,则可解决该问题,但产生设备大型化的问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种基板处理装置,可以防止在喷淋处理之前液膜处理中成为问题的向上游侧的液体飞散。

为了实现上述目的,本发明的基板处理装置,在将基板大致沿水平方向传送并通过多个处理部,在各处理部将处理液供给到基板的表面的传送式的基板处理装置中,在多个处理部中的至少一个处理部的入口部分,设置向基板宽度方向的整个区域膜状地喷出处理液的液膜式的缝隙喷嘴,将防止从该缝隙喷嘴喷出的处理液向入口侧飞散的遮挡部件设置在所述缝隙喷嘴中。

最好将所述缝隙喷嘴构成为可变更处理液的喷出方向。通过该结构,可以与基板的行进方向倾斜来喷出处理液,更有效地防止向上游侧的液体飞散。

从防止飞散效果等方面来看,所述遮挡部件最好被安装在处理液的喷出口附近而可与喷出方向倾斜地交叉,兼作使喷出液向远离入口的方向转向的导向板。

将所述缝隙喷嘴组合于从在基板的行进方向和与该行进方向成直角的方向上排列的多个喷射喷嘴向基板的整个表面供给处理液的喷淋组件的入侧,可特别发挥效力。

本发明的基板处理装置可应用于蚀刻装置,但也可以应用于剥离装置。在蚀刻装置中,所述缝隙喷嘴在蚀刻部和水洗部中十分有效。剥离装置是在对基板的表面供给剥离液后,对该表面进行水洗的结构,但在供给剥离液的剥离部和水洗部之间,有夹置置换部的情况和不夹置置换部的情况。置换部是在剥离液与水混合产生问题的情况下,将基板表面上的剥离液暂时置换成不产生问题的药液的部分。剥离装置中的缝隙喷嘴在剥离部和水洗部中是有效的,而在它们之间夹置置换部的情况下,对于该置换部也有效。

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