[发明专利]掩模、附有光反射膜的基板、光反射膜的形成方法

权利要求书

1.一种掩模，用于在有多个点区的基板上形成图形，其特征在于，包括：

可透过入射光的透光部；以及

实质上不透光的不透光部，

由上述透光部或不透光部形成的图形以比上述点区的数目少的点数为一个单元而形成，同时在该一个单元内不规则地排列，并且

含有多个上述单元。

2.如权利要求1所述的掩模，其特征在于：

上述透光部或不透光部的直径取3～15μm范围内的值。

3.如权利要求1所述的掩模，其特征在于：

具有各直径不相同的多个上述透光部，或者各直径不相同的不透光部。

4.一种掩模，用于在有多个点区的基板上形成图形，其特征在于，包括：

可透过入射光的透光部；以及

实质上不透光的不透光部，

由上述透光部或不透光部形成的图形以比上述点区的数目少的点数为一个单元而形成，同时在该一个单元内包含对称的部位。

5.一种附有光反射膜的基板，在有多个点区的基板上形成光反射膜，其特征在于：

包含具有凸部或凹部的光反射膜，

由上述凸部或凹部形成的图形在由多个点所定义的一个单元内不规则地排列。

6.如权利要求5所述的附有光反射膜的基板，其特征在于：

上述凸部的高度或者凹部的深度在面内实质上相等。

7.如权利要求5所述的附有光反射膜的基板，其特征在于：

上述多个凸部或凹部的直径取3～15μm范围内的值。

8.如权利要求5所述的附有光反射膜的基板，其特征在于：

上述多个凸部或凹部的间隔取3.5～30μm范围内的值。

9.如权利要求5所述的附有光反射膜的基板，其特征在于：

上述多个凸部的高度或者凹部的深度取0.1～10μm范围内的值。

10.如权利要求5所述的附有光反射膜的基板，其特征在于：

由上述多个点定义的单元比上述点区的数目少，并且包含多个上述单元。

11.如权利要求5所述的附有光反射膜的基板，其特征在于：

具有各直径不相同的多个上述凸部，或者各直径不相同的多个上述凹部。

12.一种附有光反射膜的基板，在有多个点区的基板上形成光反射膜，其特征在于：

包含具有凸部或凹部的光反射膜，

由上述凸部或凹部形成的图形以多个点为一个单元而形成，并且在该单元内包含对称的部位。

13.一种电光器件，它具有多个点区，其特征在于，包含：

形成了具有凸部或凹部的光反射膜的基板；以及

被上述基板支撑的电光层，

由上述凸部或凹部形成的图形在由多个点所定义的一个单元内不规则地排列。

14.如权利要求13所述的电光器件，其特征在于：

上述凸部的高度或者凹部的深度在面内实质上相等。

15.如权利要求13所述的电光器件，其特征在于：

由上述多个点所定义的单元比上述点区的数目少，并且包含多个上述单元。

16.如权利要求13所述的电光器件，其特征在于：

由对应于多个点设置的、颜色各不相同的多个着色层及与它们对应的多个点形成1个像素，在上述一个单元内至少有1个像素对应而构成。

17.一种电光器件，它具有多个点区，其特征在于，包括：

形成了具有凸部或凹部的光反射膜的基板；以及

被上述基板支撑的电光层，

由上述凸部或凹部形成的图形以多个点为一个单元而形成，并且在该单元内包含对称的部位。

18.如权利要求17所述的电光器件，其特征在于：

由对应于多个点设置的、颜色各不相同的多个着色层及与它们对应的多个点形成1个像素，在上述一个单元内至少有1个像素对应而构成。