[发明专利]制备肽的方法

说明书

技术领域

本发明涉及制备含有一或多个酰胺键的化合物、尤其是肽的多用途新方法，特别是在溶液中进行的方法。

背景技术

肽是在溶液中或固体支持物上合成的。在这两种方法中，偶联和去保护步骤重复地交替，并可以被间歇纯化分开。在每个偶联步骤中优选使用过量的活化羧基成分以保证与氨基成分定量偶联；由此避免终产物中出现缺失序列。在固相肽合成中，通常在每个偶联步骤末通过过滤除去残余的活化羧基成分。在液相合成中通常假定残余的活化羧基成分在间歇的水处理过程中被破坏和除去。然而，由于偶联步骤后不能完全除去残余(活化的)羧基成分，而这些成分随后在去保护后发生偶联，所以通常在液相合成中遇到作为终产物杂质的插入肽序列。为了避免所述副反应的发生，可以直接在偶联步骤后引入清除步骤以清除(失活)残余的活化羧基官能团。通常使用胺作为清除剂。使用多胺作为清除剂导致被清除的化合物可以根据其极性，有效地被抽提至-优选酸性的-水相中[例如Kisfaludy，L.等(1974)Tetrahedron Lett.19，1785-1786]。该抽提通常在去保护步骤前进行，以避免生长中的肽流失到水相中。然而，已发现该程序在许多情况下由于被清除化合物的疏水性(羧基成分的氨酰基部分固有的疏水性被仍存在的氨基保护基团加强)导致间歇的纯化不彻底。因此，水相抽提并不十分有效。

近来，Carpino，LA.等[(1999)J.Org.Chem.64，4324-4338]报道了对此清除方法的改进。除了使用多胺作为清除剂外，还在该方法中使用氨基保护基团1，1-双氧代苯并[b]噻吩-2-基甲氧基羰基(Bsmoc)。Bsmoc官能团对碱具有极高的不稳定性。其结果是，使用多胺在一个相同步骤中清除残余的活化羧基官能团和除去Bsmoc官能团。

发明内容

现在发现了一种制备肽的新方法，其中使用过量的活化羧基成分来酰化氨基成分，而且在酰化反应后使用包含自由阴离子或潜阴离子(即，去保护时形成的阴离子)的胺作为残余的活化羧基成分的清除剂。因为-与Carpino方法不同-不必在清除过量活化羧基官能团的相同反应条件下进行N端官能团的去保护，所以此新方法使得可以基本上随意地选择活化羧基成分N端的保护基团。而且，本发明方法使得可以高效除去残余的活化羧基成分，而不会遇到使用多胺作为清除剂的其它现有技术方法中的疏水性问题。优选地，本发明方法在溶液中进行。然而，也可以将本方法应用于固相肽合成。本发明方法也适于制备含有一或多个酰胺键的其它化合物。

在一个优选实施方案中，使用包含潜阴离子的胺作为清除剂。优选地，清除性胺中的潜阴离子带有暂时性保护基团，该基团可以在与生长中的肽连接的任何持久保护基团时选择性地去除。在一个尤其优选的实施方案中，清除性胺中潜阴离子的保护基团表现出与生长中的肽N端存在的暂时性保护基团相似的不稳定性。这就允许在一个工艺步骤中使清除剂去保护产生阴离子并使生长中的肽的N端去保护。尤其优选以下本发明方法，其中存在于生长中的肽N端的和任选地存在于清除剂中的暂时性保护基团是可氢解去除的基团，而持久保护基团是可酸解去除的保护基团。优选地，所述暂时性保护基团是苄基类的，例如(取代的)苄基和苄氧基羰基基团。优选的清除剂是包含自由阴离子或潜阴离子的伯胺，尤其是C端被保护的氨基酸衍生物。除了羧酸根外，清除性胺可以包含其它阴离子官能团，例如-但不限于-磺酸根、硫酸根、膦酸根、磷酸根、或酚盐阴离子。极为优选用作清除剂的氨基酸是β-丙氨酸或其衍生物(例如酯或甲硅烷基酯衍生物)。最优选的清除剂是β-丙氨酸苄基酯或其盐。

根据本发明方法，包含自由阴离子或潜阴离子的硫醇也可以用作清除剂替代含有自由阴离子或潜阴离子的胺。

该清除剂优选以相对于需要清除的残余活性成分2至6倍摩尔的过量使用。

根据本发明清除剂的使用导致亲水性的被清除化合物的产生，这些化合物可以在去保护步骤后有效地被抽提至碱性水相中：在去保护(如果适用的话)后，被清除物中自由氨基官能团和自由羧基官能团的同时存在增强了亲水性。因此，由于可以有效地抽提亲水的被清除化合物，本发明方法导致极为有效的间歇纯化。此外，同时可以从反应混合物中抽提出未被活化的、去保护过程中其暂时性保护基团也被去除了的、可能存在的过量羧基成分。

本发明新方法可以方便地用于制备寡肽和多肽，更一般地，制备含有一或多个酰胺键的化合物。