[发明专利]显象处理装置

权利要求书

1、一种显象处理装置，它具有：

水平铺设用于大致水平地装载并输送被处理基片的输送部件而形成的输送通路；

为在上述输送通路上输送该基片而驱动上述输送部件的输送驱动机构；

具有一个或多个用于向在上述输送通路上的该基片的被处理面供给显象处理用预定处理液的喷嘴的处理液供给机构；

作为活动喷嘴地使上述处理液供给机构的至少一个喷嘴沿上述输送通路移动的喷嘴扫描机构。

2、如权利要求1所述的显象处理装置，其中该处理液供给部的活动喷嘴具有在该输送通路宽度方向上以一定间隔设置的多个喷口。

3、如权利要求1或2所述的显象处理装置，其中该喷嘴扫描部具有：支持该活动喷嘴的喷嘴支持部；在该输送通路上方引导该喷嘴支持部的导向部；驱动该喷嘴支持部沿该导向部移动的驱动部。

4、如权利要求1所述的显象处理装置，其中它具有为调节或改变该活动喷嘴的高度位置而使上述活动喷嘴升降的喷嘴升降机构。

5、如权利要求1所述的显象处理装置，其中它具有覆盖在上述输送通路上的该活动喷嘴可移动的空间的罩。

6、如权利要求1所述的显象处理装置，其中它设有：沿该输送通路给该基片的被处理面供应显象液并进行显象的显象部；在该显象部的下游向该基片的被处理面供应纯水并停止显象的冲洗部。

7、如权利要求6所述的显象处理装置，其中它具有：在上述显象部内收集落在该输送通路下面的液体的第一集液部；在该冲洗部内收集落在上述输送通路下面的液体的第二集液部。

8、如权利要求6所述的显象处理装置，其中上述处理液供给机构包含在上述显象部内向该基片的被处理面喷射显象液的第一活动喷嘴；该喷嘴扫描机构具有至少在上述显象部的区域内沿上述输送通路使该第一活动喷嘴移动的第一喷嘴扫描部。

9、如权利要求6记载的显象处理装置，其中上述处理液供给机构具有在上述显象部内在该基片被处理面上覆满显象液的第二活动喷嘴；该喷嘴扫描机构具有至少在上述显象部的区域内沿该输送通路使该第二活动喷嘴移动的第二喷嘴扫描部。

10、如权利要求6所述的显象处理装置，其中上述处理液供给机构具有在上述显象部内在显象前向该基片的被处理面喷射预淋湿用处理液的第三活动喷嘴；上述喷嘴扫描机构包含至少在上述显象部区域内沿上述输送通路使上述第三活动喷嘴移动的第三喷嘴扫描部。

11、如权利要求6所述的显象处理装置，其中上述处理液供给机构包含向上述冲洗部内在上述基片的被处理面喷射冲洗液的第四活动喷嘴；上述喷嘴扫描机构包含至少在上述冲洗部区域内沿上述输送通路使上述第四活动喷嘴移动的第四喷嘴扫描部。

12、如权利要求1所述的显象处理装置，其中它在上述输送通路上具有倾斜上述基片以使处理液依靠重力从上述基片上落下的基片倾斜机构。

13、如权利要求12所述的显象处理装置，其中上述基片倾斜机构使上述基片向着该输送通路的前方或后方倾斜。

14、如权利要求12所述的显象处理装置，其中上述基片倾斜机构包括倾斜上述基片以使显象所用的显象液靠重力从上述基片上落下的第一基片倾斜部。

15、如权利要求11所述的显象处理装置，其中上述基片倾斜机构包括倾斜上述基片以使预淋湿所用的处理液靠重力从上述基片上落下的第二基片倾斜部。

16、如权利要求1所述的显象处理装置，其中它具有使预定物理力沿上述基片表面在水平方向上相对移动以便在上述输送通路上从呈水平姿势的该基片上除去处理液的处理液除去机构。

17、如权利要求16所述的显象处理装置，其中上述处理液除去机构具有在第一位置上向该基片表面喷锐利气流以便从在上述输送通路上输送的上述基片上扫落显象所用的显象液的气体喷射机构。

18、如权利要求16所述的显象处理装置，其中上述处理液除去机构具有在第二位置上向述基片表面喷锐利气流以便从在上述输送通路上输送的该基片上扫落停止显象所用的冲洗液的气体喷射机构。