[发明专利]显象处理装置

说明书

技术领域

本发明涉及一边水平输送被处理基片一边进行一系列显象处理工序的显象处理装置。

背景技术

最近，在LCD(液晶显示器)制造的抗蚀剂涂敷显象处理系统中，作为有利地对应于LCD基片大型化的显象方式地，在水平方向铺设输送滚轮和传送带而构成的基片输送通路上，一边输送LCD基片，一边在输送中进行显象、冲洗、干燥等一系列显象处理工序的所谓平流方式引起了人们注意。这种平流方式与使基片旋转运动的旋转方式相比，基片的处理和输送系统以及驱动系统的构成较为简单，存在着发生烟雾和向基片的再附着少等优点。

在过去的平流方式中，在基片输送通路中的预定位置上，分别固定配置显象液供给喷嘴和冲洗液供给喷嘴，当基片通过各喷嘴旁边(通常是正下方)时，各喷嘴喷出处理液(显象液、冲洗液)，将处理液供给基片的被处理面。当把在输送方向的基片长度设定为L、输送速度设定为V时，给1个基片的整个被处理面供应处理液所需的时间(处理液供给时间)T可由下式概算：

   T＝L/V            ……(1)

由(1)式可见，基片尺寸(L)越大，处理液供给时间T越长，这是显象处理工序中比较麻烦的问题。就是说，在平流方式中，处理液供给时间T是在基片输送方向的一端部(前端部)和其它部(后端部)之间接受处理液供给的时间差，当处理液是显象液时，即为显象开始的时间差。该时间差(T)越大，基片上的显象质量越不一致，存在面内均匀性降低的问题。

针对这个问题，过去发展了提高输送速度V的方法，然而在平流方式中，输送速度V是有限度的，并且输送速度很高时，基片在输送途中受损的可能性越大，这不是一个有效的解决办法。

发明内容

本发明是针对上述已有技术的问题而研制的，它提供了一种在水平方向敷设的输送通路中一边输送被处理基片一边快速高效地进行显象处理的显象处理装置。

本发明的另一目的是提供一种在水平方向敷设的输送通路中一边输送被处理基片一边高质量地进行显象处理的显象处理装置。

为达到上述目的，本发明的显象处理装置具有：水平铺设用于大致水平地装载并输送被处理基片的输送部件而形成的输送通路；为在上述输送通路上输送该基片而驱动上述输送部件的输送驱动机构；具有一个或多个用于向在上述输送通路上的该基片的被处理面供给显象处理用预定处理液的喷嘴的处理液供给机构；作为活动喷嘴地使上述处理液供给机构的至少一个喷嘴沿上述输送通路移动的喷嘴扫描机构。

在上述构成中，处理液供给机构的活动喷嘴一边通过喷嘴扫描机构向在输送通路中输送的被处理基片喷出处理液，一边沿输送通路移动或扫描，由此一来，实质上不受基片输送速度和基片尺寸的影响并可快速地将处理液供给基片的整个被处理面。

在本发明的显象处理装置中，一个优选实施形式喷嘴扫描机构具有：支持活动喷嘴的喷嘴支持部；在输送通路的上方引导喷嘴支持部的导向部；驱动沿该导向部移动的喷嘴支持部的驱动部。在这种结构的情况下，能使活动喷嘴与喷嘴支持部一体地稳定地高速移动。而且，使喷嘴升降的机构被设置在喷嘴支持部上，由此可以调节或改变活动喷嘴的高度位置。

另外，通过用罩覆盖在输送通路上的活动喷嘴的可移动空间，由此形成外部异物难以进入罩内的正常处理空间。

在本发明的显象处理装置中，作为基本形式地可以设置：沿输送通路将显象液供给基片被处理面并进行显象的显象部；在该显象部的下游侧将纯水供给基片被处理面并停止显象的冲洗部。在这种情况下，在显象部内设置收集落在输送通路下面的液体的第一集液部，在冲洗部内设置收集落在输送通路下面的液体的第二集液部。

根据本发明的一个实施例中，处理液供给机构具有在显象部内将显象液喷射在基片被处理面上的第一活动喷嘴，该喷嘴扫描机构具有至少在显象部的区域内沿输送通路使该第一活动喷嘴移动的第一喷嘴扫描部。采用这种结构，可以按照本发明的喷嘴扫描方式快速高效地进行喷雾式显象工序并能得到良好的显象质量。

根据本发明的另一个实施例，处理液供给机构包含在显象部内使显象液覆满基片被处理面的第二活动喷嘴，该喷嘴扫描机构包含至少在显象部区域内沿搬送通路使该第二活动喷嘴移动的第二喷嘴扫描部。采用这种构成，可以按照本发明的喷嘴扫描方式快速高效地进行叶片式显象工序并能得到良好的显象质量。