[发明专利]药液涂敷方法及其涂敷装置

说明书

技术领域

本发明涉及药液涂敷方法及其涂敷装置，例如在液晶用玻璃基板上涂敷药液时，该方法和装置能够高效率进行均匀调整药液漫延的药液抑止，以使在涂敷过的药液中不发生涂敷不匀。

背景技术

下面，用附图说明现有的药液涂敷装置。图6是现有的药液涂敷装置的示意结构图。如图6所示，现有的药液涂敷装置包括：药液处理槽1，在液晶用玻璃基板等大尺寸的基板6上进行药液涂敷；运送滚轮5，运送设置在药液处理槽1内部的基板6；药液贮液箱2，设置在药液处理槽1的底部；下滴喷嘴7，向基板6上下滴药液；以及可调整角度的气刀，用于调整下滴的药液的弥散；下滴喷嘴7通过泵3、过滤器4与贮液箱2进行管线连接，而气刀8被管线连接到空气发生源9。

然后，相对于基板6的行进方向，将气刀8配置在下滴喷嘴7的上流侧。此外，气刀8具有比基板6的宽度稍宽的尺寸，同时将空气喷出口朝向与基板6的行进方向垂直的方向来设置，以规定的角度向基板6上吹出高压空气。此外，贮液箱2具备回收处理后的药液并进行循环的功能。

下面用图7来说明使用这样的现有结构的药液涂敷装置，在基板上进行药液涂敷的方法。图7是图6的局部放大图。首先，将基板6搬入到药液处理槽中。搬入的基板6通过运送滚轮5沿基板行进方向(用箭头表示)按一定速度移动。从气刀8始终向基板6的表面以规定的角度吹出高压空气12，从该气刀8下方通过的基板6到达下滴喷嘴7的下方。药液11连续地从下滴喷嘴7滴下，在基板6的前端到达下滴喷嘴7的正下方的时刻从下滴喷嘴7向基板表面涂敷药液11，药液11在行进的基板6上流动弥散。弥散到基板6的后方的药液11通过从垂直于基板行进方向的气刀8吹出的高压空气12，使药液11的弥散的前沿在基板宽度方向上被抑制成一直线状(以下，将该状态称为药液抑止)。在该药液抑止的状态下，随着基板6的行进，药液11的弥散的前沿在基板6的后端之前大致维持一直线状并进行流动，所以可以在基板6上存在没有涂敷弥散不匀的均匀的饱满药液。

作为使用该气刀的这种相关技术，有(日本)特开2001-87702号公报，如上所述，该技术用于除去在基板上涂敷的多余的液体，而未论述以下方法：为了没有涂敷弥散不匀，使用气刀作为设置于下滴喷嘴前侧的药液抑止部件。

但是，在上述的现有涂敷方法中，如图8的说明图所示，为了使从气刀8吹出的空气流均匀，需要严密地进行空气吹出口13的间隙调整。调整通过固定螺钉16进行(示于图9)，但如果调整得不好，则无论什么场所在间隙上都产生差别。因此，从空气吹出口13吹出的高压空气12a、12b、12c的吹出方向分散，高压空气的流动不集中，即使进行气刀8的角度调整，也不能消除该分散。

特别是在液晶用玻璃基板这样的基板尺寸大的情况下，在基板上不易均匀地进行药液弥散，难以把向与基板行进方向垂直的方向弥散的药液涂敷得均匀，其结果，如图9的俯视图所示，仅用气刀8不能充分阻止药液11在基板6上流动漫延，在涂敷后的药液11中产生涂敷不匀15，在基板6的涂敷结束后，残留着该涂敷不匀15影响的基板6被运送到下一工序。残留了该涂敷不匀15影响的部分其药液的涂敷厚度也不均匀，很可能对下一工序产生不良影响。

于是，在现有的药液涂敷方法和装置中，仅用气刀使药液抑止不充分而产生涂敷弥散不匀，在残留受该涂敷弥散不匀影响的状态下，基板被运送到下一工序。例如，如果药液涂敷工序是清洗液涂敷工序，则在下一工序的清洗液除去工序中也不能除去涂敷不匀的影响而仍残留下来，成为清洗不良的原因。

发明内容

因此，本发明提供一种药液涂敷方法及其涂敷装置，在液晶用玻璃基板这样的尺寸大的基板上涂敷药液时，通过设置能够充分阻止药液在基板上流动漫延的药液抑止部件，从而在涂敷过药液中不产生不匀，并且减少对下一工序的影响，提高产品成品率。

本发明是一种药液涂敷方法，用于向沿一定方向按一定速度行进的基板涂敷药液，从与所述基板表面相对配置的下滴喷嘴向所述基板表面下滴药液，使用第1药液抑止部件和第2药液抑止部件这两级使向所述基板表面的上流侧流动的所述药液抑止，其中，所述第1药液抑止部件被设置在比所述下滴喷嘴的位置靠近相对于所述基板的行进方向的上流侧位置，所述第2药液抑止部件被设置在比所述第1药液抑止部件更靠近相对于行进方向的上流侧位置。