[实用新型]一种适用于真空微蒸发镀的装置无效
| 申请号： | 02229150.4 | 申请日： | 2002-04-18 |
| 公开（公告）号： | CN2536598Y | 公开（公告）日： | 2003-02-19 |
| 发明（设计）人： | 司勇;司洪业 | 申请（专利权）人： | 司勇 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 450006 河南省郑州*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 适用于 真空 蒸发 装置 | ||
【权利要求书】：
1、一种适用于真空微蒸发镀的装置，它包括真空泵(1)，与所述真空泵(1)通过管道(2)相连通的扩散泵(3)，以及通过带有阀门(4)的管道(5)与所述扩散泵(3)相连通的镀覆室(6)，其特征在于：在位于所述阀门(4)与所述镀覆室(6)之间的管道(5)上设置有一用于向所述镀覆室(6)内充以惰性气体的充气阀(7)。
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