[其他]增压吸附式低温渗硼法在审
| 申请号： | 101985000005278 | 申请日： | 1985-04-01 |
| 公开（公告）号： | CN85105278B | 公开（公告）日： | 1986-11-26 |
| 发明（设计）人： | 王大庸;张仲麟;陈秀洁;张学成 | 申请（专利权）人： | 大连工学院 |
| 主分类号： | 分类号： | ||
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 辽宁省大*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 增压 吸附 低温 渗硼法 | ||
【权利要求书】：
1、一种低温化学热处理工艺PAR低温渗硼法主要包括低于A1点的温度，渗硼剂〔6〕、活化剂〔9〕，其特征在于它还包括渗硼罐〔2〕内的一定气氛压力和活性吸附剂〔8〕。
2、根据权利要求1所述的PAR低温渗硼法，其中，渗硼罐〔2〕内的一定气氛压力控制在相对压力为1-20kg/cm2。
3、根据权利要求1或2所述的PAR低温渗硼法，其中，渗硼罐〔2〕内的一定气氛压力当达到选定的控制压力时，经短期停留后进行逐步减压，一般要在渗硼进行到最后一小时。相对压力降至0.5～1kg/cm2。
4、根据权利要求1所述的PAR低温渗硼法，其中，活性吸附剂〔8〕的加入量在10%（重量）以上。
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