[其他]瓷介电容器化学镀镍方法在审
| 申请号： | 101985000008949 | 申请日： | 1985-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN85108949B | 公开（公告）日： | 1988-09-28 |
| 发明（设计）人： | 张海成 | 申请（专利权）人： | 辽宁省辽阳市无线电器件厂 |
| 主分类号： | 分类号： | ||
| 代理公司： | 辽宁专利事务所 | 代理人： | 吴晓东 |
| 地址： | 辽宁省辽阳市*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 电容器 化学 方法 | ||
【权利要求书】：
1、一种瓷介电容器的化学镀镍方法，采用预处理、清洗、敏化、活化、预镀膜、镀膜工艺，其特征在于：
（1）在含有氢氟酸和铬酐的酸蚀液中预处理，
（2）在冲洗、煮沸、超声清洗、离心甩干、烘干、烧脏方法进行彻底清洗，
（3）敏化，
（4）活化，
（5）清洗，
（6）用含硫酸镍，次磷酸钠和焦磷酸钠的溶液进行预镀。
2、根据权利要求1所述的瓷介电容器的化学镀镍方法，其特征是预处理的酸蚀液中还含氢氟酸15%～20%（体积），铬酐40～60克/升。
3、根据权利要求1所述的瓷介电容器的化学镀镍方法，其特征是预处理后的彻底清洗条件为：水洗用自来水和去离子水，烘干温度为100～200℃，烧脏温度为800～860℃。
4、根据权利要求1所述的瓷介电容器的化学镀镍方法，其特征是敏化液用氯化亚锡溶液，活化液用氯化钯溶液。
5、根据权利要求1所述的瓷介电容器的化学镀镍方法，其特征在于敏化、活化后的清洗条件为：用去离子水荡洗3～5次，每次1分钟，使pH值达到6～7。
6、根据权利要求1所述的瓷介电容器化学镀镍方法，其特征是预镀条件为：预镀液中含硫酸镍0.03～0.05克/升，次磷酸钠20-30克/升和焦磷酸钠15～20克/升，预镀液的温度在50～90℃，与镀液的温度相同，预镀时间为1～3分钟。
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