[发明专利]具有标线器平台安全结构的方法及其装置

说明书

技术领域

本发明涉及光微影(photolithography)，尤其涉及一种具有一标线器(reticle)平台安全结构的方法及装置。

背景技术

具有图案化影像的标线器或掩模为光微影工具中所使用的基本组件。现有工具使用透射性标线器。具体地说，对于一透射性标线器，一光源引导光通过该标线器以将一图案化影像投影在一覆盖有感光光刻胶的半导体基板上。该光刻胶中所捕捉的影像在该基板上界定集成电路。通常，使用透射性标线器的工具可投影具有150纳米(nm)至200纳米的线宽的结构，这些结构在基板上形成集成电路。

在一现有工具中，当一基板或晶圆已准备好接收一图案化影像时，将标线器安装于一支撑该标线器且在x及y方向中以一特定自由度来移动该标线器的标线器平台上。为了保护标线器不受污染，可使用一薄膜(pellicle)，其是一密封该标线器的保护膜。然而，该薄膜未被设计成防止组件与该标线器平台碰撞并防止损坏该标线器。

随着集成电路变得更加紧密，投影于基板上的图案化影像的结构需要更小且更细的细节。一种能够投影具有30nm或更少的线宽的这些结构的光微影技术为远紫外线(extreme ultraviolet，EUV)微影。EUV微影使用一真空腔室中的一反射性标线器以代替使用一透射性标线器，该反射性标线器将来自该标线器的具有10nm至14nm范围内的波长的光反射至一基板。需要一用于EUV微影的真空腔室以防止EUV光束衰减。EUV微影也需要许多将反射光引导至基板的镜面及光学组件。这些组件可形成一位于标线器平台下方的光学系列(optical train)或平台。

对于EUV微影，标线器平台可需要在极接近于光学平台之处移动标线器。因此，由于光学原因，标线器平台可在z方向中以及在x及y方向中移动。因此，安全结构必须防止光学平台中的组件与标线器平台碰撞并防止对标线器引起不可修补的损坏。

因为标线器系非常昂贵的，所以需要提供保护标线器平台及标线器不与其它组件碰撞的安全措施。

发明内容

本发明为解决上述技术问题而采取的方案是提供一光微影装置，其包含一标线器平台及一光学平台。该标线器平台支撑一标线器且能够在x-y-z方向中移动该标线器。该光学平台包含：多数个组件，其用以将自该标线器所反射的光引导至一晶圆基板上；及一安全结构，其用以移动该光学平台的一或多个组件离开该标线器平台。

本发明为解决上述技术问题而采取的方案是提供一光微影方法，包括将一标线器安装于一标线器平台上。该标线器平台向一光学平台移动。为了防止该光学平台的一或多个组件与该标线器平台碰撞，若该标线器平台超过一临限移位(threshold displacement)，则触发一安全结构。

本发明为解决上述技术问题而采取的方案是提供一光微影工具，包含用于执行微影的多数个组件及一安全结构。该安全结构防止上述多数个组件的一组件与另一组件碰撞。本发明还提供一用于保护上述组件的方法，包括：在一向下方向中移动至少一组件；及防止另一组件与该向下方向中的该移动组件碰撞。

本发明为解决上述技术问题而采取的方案是提供一用于光微影工具的安全结构，包含一安装台、一支架结构(standoff structure)及一吸收单元。该安装台支撑一光学组件。若该支架结构与一标线器平台接触，则该支架结构在该安装台上向下推动。该吸收单元吸收该向下推动的力，使得安装台上的光学组件离开标线器平台。

附图说明

为让本发明的上述目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合附图作详细说明，在无论任何可能之处，相同之参考数字将贯穿附图用以表示相同或相似的部分，其中：

图1示出一具有标线器平台安全结构的EUV微影工具的基本组件的一实例方块图。

图2A示出一固定遮蔽(blind)的一实例的俯视图。

图2B示出图2A的固定遮蔽的一实例的三维图。

图3示出一具有标线器平台安全结构的标线器平台的一实例图。

图4A示出一未触发标线器平台安全结构的位置中的标线器平台的一实例图。

图4B示出一超过临限移位并触发标线器平台安全结构的位置中的标线器平台的一实例图。

图5示出一标线器平台安全结构的一替代实例图。

具体实施方式