[发明专利]制造用于磁记录介质的玻璃基底的方法、由该方法获得的用于磁记录介质的玻璃基底、和使用该基底获得的磁记录介质无效
| 申请号： | 200580029014.5 | 申请日： | 2005-08-04 |
| 公开（公告）号： | CN101384517A | 公开（公告）日： | 2009-03-11 |
| 发明（设计）人： | 会田克昭;町田裕之;羽根田和幸 | 申请（专利权）人： | 昭和电工株式会社 |
| 主分类号： | C03C23/00 | 分类号： | C03C23/00;C03C19/00;G11B5/73;G11B5/84 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 林柏楠;刘金辉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 制造 用于 记录 介质 玻璃 基底 方法 获得 使用 | ||
【权利要求书】：
1.制造用于磁记录介质的玻璃基底的方法，包括使用磨料粒抛光结晶玻璃基底，然后使用有机羧酸水溶液洗涤该基底。
2.根据权利要求1的制造用于磁记录介质的玻璃基底的方法，其中所述有机羧酸是草酸、乙酸、酒石酸、柠檬酸、葡糖酸、琥珀酸、苹果酸或丙二酸。
3.根据权利要求1或2的制造用于磁记录介质的玻璃基底的方法，其中所述有机羧酸水溶液的浓度为0.1至10质量％。
4.根据权利要求1至3任一项的制造用于磁记录介质的玻璃基底的方法，其中所述洗涤在10至80℃的温度进行。
5.根据权利要求1至4任一项的方法制成的用于磁记录介质的玻璃基底。
6.使用根据权利要求5的用于磁记录介质的玻璃基底制成的磁记录介质。
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