[发明专利]在箔衬底上太阳能电池的形成有效
申请号: | 200580036909.1 | 申请日: | 2005-09-06 |
公开(公告)号: | CN101061588A | 公开(公告)日: | 2007-10-24 |
发明(设计)人: | 克雷格·莱德霍尔姆;布兰特·博尔曼 | 申请(专利权)人: | 纳米太阳能公司 |
主分类号: | H01L31/0264 | 分类号: | H01L31/0264;H01L31/0272;H01L31/04 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 蒋世迅 |
地址: | 美国加*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 衬底 太阳能电池 形成 | ||
技术领域
本发明涉及光生伏打装置的制作,更具体地说,是涉及光生伏打装置吸收体层的处理和退火。
背景技术
已经用吸收体层制成高效的光生伏打装置,诸如太阳能电池,该吸收体层由包含IB族、IIIA族、和VIA族元素的合金,例如铜与铟和/或镓的合金,或铝与硒和/或硫的合金制成。该种吸收体层常常称作CIGS层,而得到的装置常常称作CIGS太阳能电池。CIGS吸收体层可以淀积在衬底上。在铝箔衬底上制作这种吸收体层是理想的,因为铝箔相对便宜、轻、和可弯曲。遗憾的是,目前用于淀积CIGS吸收体层的技术,与把铝箔作衬底使用不相容。
典型的淀积技术,包括蒸发、溅射、化学汽相淀积、等等。这些淀积过程通常在高温下进行并持续长的时间。该两个因素都能导致正在其上进行淀积的衬底的损坏。这种损坏直接因衬底材料暴露在热中,和/或因淀积过程的热激发不希望有的化学反应引起。因此,CIGS太阳能电池的制作,通常要求非常牢固的衬底材料。这些限制已经把铝和铝箔基的箔的使用排除在外。
一种替代的淀积办法,是在衬底上进行CIGS前体(precursor)材料的溶液基印刷。溶液基印刷技术的例子,例如在公开的PCT申请WO 2002/084708和共同转让的U.S.Patent Application 10/782,017中说明,本文引用该两申请,供参考。该淀积办法的优点,包括相对较低的淀积温度和淀积过程的迅速性两者。两个优点的作用,是使正在其上进行淀积的衬底的热致损坏最小。
虽然在CIGS太阳能电池制作中,溶液淀积是相对低温度的步骤,但它不是仅有的步骤。除淀积外,CIGS太阳能电池制作中的关键步骤,是CIGS吸收体层的硒化和退火。硒化是把硒引进大块的CIG或CI吸收体层,把硒掺进膜中,而退火是提供有适当结晶结构的吸收体层。在现有技术中,硒化和退火,是通过在H2Se或Se蒸汽中加热衬底,并把该初生吸收体层长时间保持在高温中进行的。
虽然用铝作太阳能电池装置的衬底,由于这种衬底的低成本和轻的性质两者,应是理想的,但有效地使CIGS吸收体层退火的常规技术,同样把衬底加热到高温,导致Al衬底的损坏。在Al衬底长时间暴露在热和/或含硒化合物的时候,有若干因素导致Al衬底降质。首先,在长时间加热的时候,在镀钼的Al衬底内个别的层能够熔融,并形成该装置的金属间的后接点,该金属间的后接点降低钼层计划要达到的电子功能。其次,钼层界面的形态在加热期间被改变,对随后CIGS粒子通过钼层表面引起的成核模式的变化而生长,有负面影响。第三,在长时间加热的时候,Al能够迁移进CIGS吸收体层,瓦解半导体的功能。第四,在Al箔中通常存在的杂质(如Si、Fe、Mn、Ti、Zn、和V),在长时间加热的时候,能够随同移动的Al传播,扩散进太阳能电池中,瓦解电池的电子和光电子两种功能。第五,当Se暴露在Al中相对长的时间和相对高的温度时,能够形成不稳定的硒化铝。在潮湿的空气中,硒化铝能够与水蒸气反应,形成氧化铝和硒化氢。硒化氢是巨毒气体,它的自由形成能够造成对安全的危害。因为所有这些理由,从而高温淀积、退火、和硒化,对铝或铝合金制成的衬底是不能实现的。
因为高温、长时间淀积、和退火步骤,CIGS太阳能电池不能在铝衬底(如由Al和/或Al基合金构成的可弯曲箔)上有效地制作,相反,必须在更牢固(也更昂贵)的材料,例如不锈钢、钛、或钼箔、玻璃衬底、或金属或金属氧化物涂敷的玻璃制成的更重衬底上制作。因此,即使基于铝箔的CIGS太阳能电池比不锈钢、钛、或钼箔、玻璃衬底、或金属或金属氧化物涂敷的玻璃衬底更轻、可弯曲、和不昂贵,但目前的实践不允许把铝箔用于衬底。
因此,本领域需要一种在铝箔衬底上制作CIGS太阳能电池的方 法。
附图说明
借助阅读下面结合附图的详细说明,能够容易了解本发明的教导,附图中:
图1是剖面示意图,表明按照本发明一个实施例的吸收体层的制作。
具体实施方式
虽然为演示的目的,下面的详细说明包含许多具体的细节,本领域任一个一般人员将明白,下面的详细描述的许多变化和更改,都包含在本发明的范围内。因此,下面说明的本发明示例性的实施例,在阐述中对要求的发明不失任何普遍性和不加限制。
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