[发明专利]光记录介质及其制备方法

权利要求书

1.一种光记录介质，该光记录介质包含：基材；形成于该基材上的记录再现功能层；通过固化下述组分A而在该记录再现功能层上形成的透光层；和形成于该透光层上的含有下述组分B的防污层，

组分A：含有二氧化硅颗粒和具有氨基甲酸酯键的低聚物的组合物，该组合物可以经射线照射而固化，

组分B：具有氟原子的烷氧基硅烷化合物和/或该烷氧基硅烷化合物的水解产物。

2.如权利要求1所述的光记录介质，其中，所述组分A中所含的二氧化硅颗粒是胶体二氧化硅，或烷氧基硅烷低聚物的水解产物二氧化硅颗粒。

3.如权利要求1所述的光记录介质，其中，所述组分A中所含的二氧化硅颗粒的数均粒径为0.5nm～50nm。

4.如权利要求1所述的光记录介质，其中，所述组分A中所含的二氧化硅颗粒用硅烷偶联剂进行了表面处理。

5.如权利要求1所述的光记录介质，其中，所述组分B中所含的具有氟原子的烷氧基硅烷化合物是具有氟烷基或氟芳基的硅烷偶联剂。

6.权利要求1～5任一项所述的光记录介质的制备方法，该方法包括以下步骤：在记录再现功能层上固化组分A而形成透光层；在该透光层上涂布含有组分B和溶剂的组合物，干燥该组合物而形成防污层，所述组合物中含有的固体组分的量为0.01重量％～1重量％。

7.如权利要求6所述的光记录介质的制备方法，其中，在形成所述透光层的步骤中，在含有溶剂的液体介质中制备二氧化硅颗粒，将具有氨基甲酸酯键的低聚物溶于所述液体介质，去除该液体介质中的溶剂，从而制得组分A。

8.如权利要求6所述的光记录介质的制备方法，其中，所述固体组分包括具有氟原子的烷氧基硅烷化合物和/或该烷氧基硅烷化合物的水解产物。

9.如权利要求6所述的光记录介质的制备方法，其中，所述溶剂为卤素类有机溶剂。