[发明专利]光记录介质及其制备方法无效
申请号: | 200580038391.5 | 申请日: | 2005-11-09 |
公开(公告)号: | CN101057282A | 公开(公告)日: | 2007-10-17 |
发明(设计)人: | 玉木淳;江崎聪;栗和田健 | 申请(专利权)人: | 三菱化学媒体股份有限公司 |
主分类号: | G11B7/24 | 分类号: | G11B7/24;G11B7/257;G11B7/254;G11B7/26 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 丁香兰;李建忠 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 记录 介质 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及光记录介质及其制备方法。
背景技术
在例如采用蓝色激光进行读取的新一代DVD等光记录介质中,通常在记录再现功能层上形成用于保护的层(下文适当地称为“保护层”),以保护执行记录功能的记录再现功能层。这种保护层要求具有以下性能,例如低固化收缩和高硬度,此外,还要求具有防污性,以防止光记录介质的表面被污染。为了满足这些要求,迄今,对于在光记录介质表面形成适当保护层的技术已进行了多种开发。
例如,专利文献1公开了使光记录介质具有防污特性的技术,其中,在光记录介质表面形成:以聚氨酯丙烯酸酯为主要组分的透光层;以活性能量射线固化性化合物为主要组分的顶层,其中可以含有分散无机组分颗粒;以及由含有氟化合物的光固化性树脂形成的防污层。
而且,专利文献2提出了一种具有低收缩和高硬度的组合物,所述组合物使用了二氧化硅颗粒和具有氨基甲酸酯键的低聚物,并且还公开了这种组合物可用于光记录介质的保护层。
专利文献1:JP-A-2004-83877
专利文献2:WO2004/041888
发明内容
本发明所解决的问题
然而,在专利文献1所公开的技术中,光记录介质表面上形成有三个层,因而成本高,且该制备方法的操作性和实用性差。而且,本发明人研究发现,当顶层用作厚的锚固层时,由于固化收缩,锚固层会出现裂纹或光记录介质发生变形,例如翘曲(弯曲)。而且,还发现顶层与防污层之间的粘合性差。
而且,通过专利文献2所公开的技术,难以提高光记录介质的防污性。
在这样的情况下完成了本发明,以解决上述问题。本发明的目的是提供光记录介质,及其制备方法,所述光记录介质可以通过简单的工业上有利的方法而获得足够的防污性和粘合性。
解决问题的方法
为达到上述目的,本发明人进行了广泛的研究,结果发现,可以提供一种具有足够的防污性以及透光层与防污层之间的粘合性的光记录介质,所述防污性和粘合性通过简单的工业上有利的方法获得。所述光记录介质通过以下方法制得,即,在含有基材和记录再现功能层的光记录介质上形成以下各层:通过固化含有二氧化硅颗粒和具有氨基甲酸酯键的低聚物的组合物而形成的透光层,所述组合物可以经射线照射而固化;含有具有氟原子的烷氧基硅烷化合物和/或该烷氧基硅烷化合物水解产物的防污层。基于这种发现而完成了本发明。
也就是说,本发明提供:
(1)光记录介质,该光记录介质包含:基材;形成于该基材上的记录再现功能层;通过固化下述组分A而在该记录再现功能层上形成的透光层;和形成于该透光层上的含有下述组分B的防污层,
组分A:含有二氧化硅颗粒和具有氨基甲酸酯键的低聚物的组合物,该组合物可以经射线照射而固化;
组分B:具有氟原子的烷氧基硅烷化合物和/或该烷氧基硅烷化合物的水解产物。
(2)如上述(1)所述的光记录介质,其中,所述组分A中所含的二氧化硅颗粒是胶体二氧化硅,或烷氧基硅烷低聚物的水解产物二氧化硅颗粒。
(3)如上述(1)或(2)所述的光记录介质,其中,所述组分A中所含的二氧化硅颗粒的数均粒径为0.5nm~50nm。
(4)如上述(1)~(3)任一项所述的光记录介质,其中,所述组分A中所含的二氧化硅颗粒用硅烷偶联剂进行了表面处理。
(5)如上述(1)~(4)任一项所述的光记录介质,其中,所述组分B中所含的具有氟原子的烷氧基硅烷化合物是具有氟烷基或氟芳基的硅烷偶联剂。
(6)以上(1)~(5)任一项所述的光记录介质的制备方法,该方法包括以下步骤:在记录再现功能层上固化组分A而形成透光层;在该透光层上涂布含有组分B和溶剂的组合物,干燥该组合物而形成防污层,所述组合物中含有固体组分的量为0.01重量%~1重量%。
(7)如上述(6)所述的光记录介质的制备方法,其中,在形成所述透光层的步骤中,在含有溶剂的液体介质中制备二氧化硅颗粒,将具有氨基甲酸酯键的低聚物溶于所述液体介质,去除该液体介质中的溶剂,从而制得组分A。
(8)如上述(6)或(7)所述的光记录介质的制备方法,其中,所述固体组分包括具有氟原子的烷氧基硅烷化合物和/或该烷氧基硅烷的水解产物。
(9)如上述(6)~(8)任一项所述的光记录介质的制备方法,其中,所述溶剂是卤素类有机溶剂。
发明效果
根据本发明,通过简单的工业上有利的方法可使光记录介质具有足够防污性和粘合性。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三菱化学媒体股份有限公司,未经三菱化学媒体股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200580038391.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:朝鲜族辣椒酱及其制作方法
- 下一篇:流体分布设备