[发明专利]用于合成2-[18F]氟-2-脱氧-D-葡萄糖的氟化方法无效
申请号: | 200580039489.2 | 申请日: | 2005-11-18 |
公开(公告)号: | CN101061130A | 公开(公告)日: | 2007-10-24 |
发明(设计)人: | N·J·奥斯博恩;J·格里格;R·P·佩蒂特;A·威尔逊;N·A·鲍威尔 | 申请(专利权)人: | 通用电气健康护理有限公司 |
主分类号: | C07H13/04 | 分类号: | C07H13/04;C07H1/00;C07H13/10 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 刘锴;赵苏林 |
地址: | 英国白*** | 国省代码: | 英国;GB |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 合成 sup 18 脱氧 葡萄糖 氟化 方法 | ||
技术领域
本发明涉及糖衍生物的氟化方法,具体来说,本发明涉及氟化葡萄 糖的生产。该方法尤其可用于制造放射性同位素氟化的糖衍生物,以 用于诸如正电子发射断层摄影(PET)的过程。
背景技术
在用于PET的[18F]-标记示踪剂化合物的制造方法中,最重要的因 素之一是总的合成非校正收率。这不仅受该方法总化学收率的控制, 还受到合成时间的控制,由于[18F]的半衰期相对较短,为109.7分钟, 合成时间是十分重要的。
典型地,通过[18O]-水靶底的回旋加速辐射得到水溶液形式的 [18F]-氟离子。普遍的作法是进行多个步骤,以便将[18F]-氟化物转化 成反应性亲核试剂,使其适合用于亲核放射性同位素标记反应。如非 放射性活性氟化一样,这些步骤包括从[18F]-氟化物离子中消除水以及 提供合适的抗衡离子(Handbook of Radiopharmaceuticals 2003 Welch & Redvanly eds.Ch.6pp 195-227)。然后使用无水溶剂 进行亲核放射性同位素氟化反应(Aigbirhio等人,1995 J.Fluor. Chem.70pp 279-87)。从氟化物离子中除去水称之为产生“裸”氟 化物离子。据信大量水的存在导致氟化物离子发生溶剂化,这屏蔽着 氟化物不受保护糖前体上的亲核进攻。因此,本领域中将除水视作增 加氟化物反应性及避免存在水造成羟基化副产物的必要步骤 (Moughamir等人,1998 Tett.Letts.39pp 7305-6)。
US 6,17 2,207涉及一种合成[18F]-标记化合物如[18F]-氟脱氧葡萄 糖([18F]-FDG)的方法,该专利教导氟化试剂必须通过向水溶液中加 入乙腈,然后通过共沸蒸发至干,制成完全无水。
合成[18F]-FDG最常用的方法是Hamacher等人,J.Nucl.Med. 27:235-238(1986)中的方法,其中1,3,4,6-四-O-乙酰基-2-O-三氟 甲磺酰基-β-D-吡喃甘露糖与[18F]氟化物的反应在无水溶剂中进行。
目前用于制造[18F]-标记糖衍生物的方法造成了某些问题;其中之 一是除去所有来自氟化物离子的残余水合溶剂十分耗时,因此影响着 总的非校正合成收率。另外,如果必须除去所有残余水,则在任何自 动合成仪上合成上和机械上的复杂性均会增加。例如,合成可能需要 更多的干燥循环,而合成仪上可能需要更有效的加热器来进行合成。
而且,很难保证放射性同位素氟化反应始终是可重复的。这是因为 溶剂中常有少量的残余水(例如高达1000ppm),而总的非校正合成 收率根据标记反应过程中存在残余水的量大幅变化。结果已经证明, 可以保持水含量在1500ppm+/-200ppm,偏差为15%。在750ppm 下这种水绝对偏差将会使百分比偏差加倍。
本发明已经作出出乎意料的发现,即并不必要在无水条件下进行糖 衍生物的氟化。事实上,如果反应混合物中水的量得到认真控制,则 该过程的放射性同位素化学纯度(因而和总收率)实际上得以提高。
这相对于现有技术中强调必须在无水条件下进行反应是尤其出人 意料的。
因此,在本发明的第一个方面提供一种制备氟化糖衍生物的方法, 该方法包括使非氟化糖衍生物与氟化物反应,其特征在于所述反应在 含有其量大于1000ppm且小于50,000ppm的水的溶剂中进行。
本发明的方法相比现有技术方法具有很大的优势。首先,已经发现 在存在这些可控量的水的情况下反应的收率并无降低,而是实际上得 以升高。
第二,由于反应混合物含有其量大于1000ppm的水,更容易保证 反应混合物中所存在水的量一致(例如通过有意地用水使标记溶剂不 纯),这意味着反应条件始终可重复。
第三,可以消除现有技术方法中所用的一些干燥步骤,这将会从试 剂成本和合成仪的制造成本这两个方面降低该方法的总成本。预计更 为简单的方法将会对方法的总体可靠性产生积极影响。
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