[发明专利]深UV用光致抗蚀剂组合物及其方法

权利要求书

1.光致抗蚀剂组合物，包含：光酸产生剂和包含至少一个由结构1描述的单元的聚合物，

其中，

A是非芳族聚合物骨架；

W是单键或非芳族连接基；

m＝0-10；

R₄和R₅独立地是氢、(C₁-C₁₈)烷基、SO₂R₇、C(O)R₇、(CH₂)_nSO₂R₇、(CH₂)_nCOR₇、(CH₂)_nOR₇、CO₂(CH₂)_nCO₂R₇、O(CH₂)_nCO₂R₇、(CH₂)_nCO₂R₇、被酸不稳定基团保护的酸性结构部分，R₄和R₅连接起来形成未取代或取代的烷基环状结构，R₄和R₅连接起来形成未取代或取代的其内部包含砜、醚、羰基、羧基和其它杂性结构部分的烷基环状结构，其中R₇选自(CH₂)_nCN，氢，(C₁-C₁₈)线性、支化或环状烷基，和被酸不稳定基团保护的酸性结构部分；

R₆独立地是(C₁-C₁₈)线性、支化或环状烷基，酸不稳定基团，(CH₂)_nSO₂R₇，(CH₂)_nCOR₇，(CH₂)_nOR₇，(CH₂)_nCO₂R₇，其中R₇选自(CH₂)_nCN，氢，(C₁-C₁₈)线性、支化或环状烷基，和酸不稳定基团；和，任选地，

R₅和R₆连接起来形成未取代或取代的含砜基团的环状烷基单元；和n＝1-18。

2.根据权利要求1的组合物，其中A是选自脂族多环单元和脂族单环单元的环状单元。