[发明专利]多重掩模和制造不同掺杂区域的方法

权利要求书

1.一种用于在衬底内制造不同掺杂的掩模：

所述掩模由负载在所述衬底上的具有均匀高度h的掩模层形成，

包含包括多个第一掩模开口的第一掩模区域，所述第一掩模开口 形成为细长形状并定向平行于第一取向，

包含包括多个第二掩模开口的第二掩模区域，所述第二掩模开口 形成为细长形状并定向平行于第二取向，

其中所述第一和第二取向形成0°<β≤90°的β角。

2.如权利要求1的掩模，其中所述第一和所述第二掩模开口在所有 情况下具有相同的宽度b。

3.如权利要求1或2的掩模，还包含：

包括第三掩模开口的第三掩模区域，所述第三掩模开口形成为细 长形状并平行于第三取向，

其中所述第一和第三取向以及所述第二和第三取向在所有情况下 形成不等于0°的角。

4.如权利要求3的掩模，其中所述第一、第二和第三掩模开口的取 向在所有情况下彼此相对形成60°的角。

5.如权利要求1或2的掩模，其形成为由氧化物或氮化物组成的硬 掩模。

6.如权利要求1或2的掩模，其中对于至少一个掩模开口，满足所 述掩模开口的宽度b小于所述掩模层的高度h。

7.如权利要求2的掩模，其中每一掩模区域包括多个相同的掩模开 口，所述相同的掩模开口在所有情况下以相同距离彼此平行排列。

8.如权利要求1或2的掩模，包括第一和第二掩模区域，所述第一 和第二掩模区域的掩模开口彼此相对形成90°角。

9.如权利要求1或2的掩模，其中所述掩模开口具有细长矩形的形式。

10.如权利要求7的掩模，其中掩模区域内所述掩模开口的宽度b和 掩模区域内所述掩模开口之间的距离a是相等的。

11.如权利要求7的掩模，其中所述第一掩模区域的掩模开口的宽度b 和/或所述第一掩模区域的掩模开口之间的距离a不同于所述第二掩模 区域的掩模开口。

12.如权利要求1或2的掩模，

其中对于给定的最小注入角α_min设计所述掩模，

其中所述β角形成在所述第一和第二掩模区域的所述掩模开口的 取向之间，其中满足以下条件：h tanα≥b_n/cosβ，其中b_n为第二掩模 开口的最小宽度，

结果，在注入角α≥α_min的注入情况下，所述第一掩模区域设计为 最小遮蔽，而所述第二掩模区域设计为被所述掩模完全遮蔽。

13.一种用于制造衬底(S)内的不同掺杂区域(DG)的方法，

其中通过掩模层的沉积和图案化而在衬底上制造掩模(DM)，

其中所述掩模具有包括第一掩模开口的第一掩模区域以及包括第 二掩模开口的第二掩模区域，所述第一掩模开口形成为细长形状并定 向平行于第一取向，所述第二掩模开口形成为细长形状并定向平行于 第二取向，

其中所述第一和第二取向形成β角，在此0°<β≤90°，

其中第一掺杂剂的第一注入以相对于衬底(S)表面法线测量的注 入角α实施，在此0°<α<90°，其中所述第一掩模开口定向平行于所 述注入方向在所述衬底平面上的投影，

其中所述衬底旋转β角，

其中第二不同掺杂剂的第二注入以相对于所述衬底(S)表面法线 测量的注入角α′实施，在此0°<α′<90°。