[发明专利]光蚀刻用清洗液及抗蚀图案的形成方法有效
| 申请号： | 200580042542.4 | 申请日： | 2005-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN101076759A | 公开（公告）日： | 2007-11-21 |
| 发明（设计）人： | 泽田佳宏;胁屋和正;越山淳;宫本敦史;田岛秀和 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/32 | 分类号： | G03F7/32;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 张平元;赵仁临 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 蚀刻 清洗 图案 形成 方法 | ||
1.一种包含水性溶液的液体在光蚀刻中作为清洗液的用途，所述水性溶液含有至少一种下述通式所示的氧化胺化合物：
[化学式1]
式中的R1为可被氧原子中断的碳原子数8～20的烷基或羟烷基；R2及R3为碳原子数1～5的烷基或羟烷基。
2.权利要求1所述的用途，其中，通式中的R2及R3为碳原子数1～5的烷基。
3.权利要求1所述的用途，其中，通式中的R2及R3为碳原子数1～5的羟烷基。
4.权利要求1所述的用途，其中，水性溶液是以水作为溶剂的水性溶液。
5.权利要求1所述的用途，其中，水性溶液以水和水混溶性有机溶剂的混合物为溶剂。
6.权利要求5所述的用途，其中，水混溶性有机溶剂为一元或多元醇类有机溶剂。
7.权利要求5或6所述的用途，其中，溶剂中的水混溶性有机溶剂的含有比例为0.01～10质量％的范围。
8.权利要求1所述的用途，其中，氧化胺化合物的浓度，相对于所述包含水性溶液的液体的总质量，为0.1ppm～10质量％的范围。
9.权利要求8所述的用途，其中，氧化胺化合物的浓度，相对于所述包含水性溶液的液体的总质量，为100ppm～3质量％。
10.权利要求1所述的用途，其中，除氧化胺化合物以外，所述包含水性溶液的液体还含有相对于该液体总质量为0.001～5质量％的比例的选自聚氧亚烷基二醇及其烷基醚中的化合物。
11.权利要求1所述的用途，其中，除氧化胺化合物以外，所述包含水性溶液的液体还含有相对于该液体总质量为0.1ppm～10质量％的浓度的分子结构中含氮原子的可溶性聚合物。
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