[发明专利]液晶显示装置用基板的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种在每个像素区域形成了薄膜晶体管的TFT基板上直接形成滤色器或者黑矩阵(black matrix)的液晶显示装置用基板的制造方法，详细地说，涉及一种通过检测边以规定速度搬运TFT基板边拍摄的像素区域中预先设定的基准位置来控制曝光光的照射定时、从而要在TFT基板的规定位置上高精确度地形成规定的曝光图案的液晶显示装置用基板的制造方法。

背景技术

通常，液晶显示装置具有在相对配置的一组透明基板间密封了液晶的结构。在这种情况下，一方的透明基板将像素电极和薄膜晶体管形成为阵列状的像素区域，在像素区域的周边配设驱动薄膜晶体管的布线从而成为TFT基板。另外，另一方的透明基板与上述薄膜晶体管以及布线对应地形成黑矩阵，覆盖黑矩阵的像素而形成滤色器，在黑矩阵以及滤色器上形成共用电极从而成为滤色器基板。在这种结构的液晶显示装置中，考虑到上述一组透明基板的对齐误差，通常将黑矩阵的线宽设计得宽。因此，在现有的液晶显示装置中，导致黑矩阵像素的孔径比(aperture ratio)降低，难以进行像素区域的微小化。

另一方面，应对上述问题，提出了覆盖配设在TFT基板的薄膜晶体管以及像素区域周边上的布线而形成滤色器的所谓“滤色器在TFT上(color filter on TFT)”的液晶显示装置用基板的制造方法(例如，参照专利文献1)。

专利文献1：特开2004-70196号公报

发明内容

发明要解决的问题

但是，在这种现有的液晶显示装置用基板的制造方法中，在TFT基板的薄膜晶体管以及布线的图案上形成滤色器以及黑矩阵的曝光图案的曝光工序，是使形成在TFT基板周边的对齐标记和滤色器或者黑矩阵掩膜的对齐标记相互一致而进行的工序，因此，对各对齐标记的位置以及各图案的排列要求高的绝对尺寸精确度。特别是在大型显示器用基板的情况下，其要求变得更严格，更难以进行各图案的位置对齐。因而，无法充分提高薄膜晶体管以及布线的图案上形成的滤色器以及黑矩阵的重合精确度，因此无法使黑矩阵的线宽变窄，无法抑制孔径比的降低并实现各像素区域的微小化。因而，无法实现高清晰的液晶显示装置。

因此，本发明的目的在于，应对这种问题点，提供一种要在TFT基板的规定位置上高精确度地形成滤色器或者黑矩阵的曝光图案的液晶显示装置用基板的制造方法。

用于解决问题的方案

为了达成上述目的，本发明的液晶显示装置用基板的制造方法，是在对每个像素区域设置薄膜晶体管并且将用于驱动该薄膜晶体管的布线设置在上述像素区域周边的TFT基板上形成滤色器或者黑矩阵的液晶显示装置用基板的制造方法，其特征在于，包括：涂敷步骤，在上述TFT基板上涂敷滤色器或者黑矩阵的感光材料；拍摄像素区域的步骤，边以规定速度搬运涂敷了上述感光材料的TFT基板边利用具有多个受光元件的摄像单元拍摄上述像素区域，其中，该多个受光元件在与上述TFT基板的搬运方向大致正交的方向上排列成一列状；检测基准位置的步骤，比较对该拍摄的图像进行处理而得到的图像数据与存储在存储部中的查询表来检测预先设定在上述像素区域中的基准位置；以及形成步骤，以该检测的基准位置为基准来控制曝光光的照射定时，在上述TFT基板上的规定位置形成滤色器或者黑矩阵的曝光图案。

根据这种方法，在对每个像素区域设置薄膜晶体管并且将用于驱动该薄膜晶体管的布线设置在像素区域周边的TFT基板上涂敷滤色器或者黑矩阵的感光材料，边以规定速度搬运上述TFT基板边拍摄像素区域，检测预先设定在该拍摄的像素区域中的基准位置，以该基准位置为基准来控制曝光光的照射定时。由此，在TFT基板上的规定位置上高精确度地形成滤色器或者黑矩阵的曝光图案。

另外，通过在上述TFT基板的搬运方向上将上述曝光图案的形成位置的近侧设为摄像位置的摄像单元，进行上述拍摄像素区域的步骤。由此，由摄像单元在TFT基板的搬运方向上拍摄曝光图案的形成位置的近侧。

并且，上述摄像单元是受光元件被排列成一列状的单元。由此，由受光元件被排列成一列状的摄像单元获取像素区域的一维图像数据。

而且，对上述拍摄的像素区域的图像进行二值化处理，将该二值化处理的上述图像数据和与预先设定的上述基准位置相当的图像数据进行比较，检测两数据一致的部分来进行上述检测基准位置的步骤。由此，对拍摄的像素区域的图像进行二值化处理，将该二值化处理的像素区域的图像数据和与预先设定的基准位置相当的图像数据进行比较，将两数据一致的部分作为基准位置而检测。