[发明专利]显影废液的处理方法

权利要求书

1.一种显影废液的处理方法，其特征在于其是从使用氢氧化四烷基铵水溶液作为显影液的光致抗蚀剂显影步骤回收的显影废液的处理方法，其中测定上述显影废液中四烷基铵浓度和金属杂质的含量，在各金属杂质的含量相对于四烷基铵均为50ppm以下时，精制处理上述显影废液，再生用作上述显影液的氢氧化四烷基铵水溶液，在至少一种金属杂质含量相对于四烷基铵高于50ppm时，废弃处理上述显影废液，或者混合作为显影液未使用的氢氧化四烷基铵水溶液进行稀释，使显示大于50ppm值的金属杂质含量达到50ppm以下，精制处理稀释的显影废液，再生用作上述显影液的氢氧化四烷基铵水溶液。

2.权利要求1所述的显影废液的处理方法，其特征在于上述显影废液或稀释的显影废液的精制处理包括中和该显影废液或稀释的显影废液中的氢氧化四烷基铵，析出光致抗蚀剂，分离析出的光致抗蚀剂的中和·分离步骤，和电解包含由该中和·分离步骤获得的四烷基铵盐的溶液，生成氢氧化四烷基铵的电解步骤。

3.权利要求1所述的显影废液的处理方法，其特征在于作为稀释显影废液的液体，使用杂质的总含量在100ppb以下的高纯度氢氧化四烷基铵水溶液。

4.权利要求2所述的显影废液的处理方法，其特征在于浓缩显影废液，使该显影废液中的氢氧化四烷基铵浓度达到8质量％以上后，向上述中和·分离步骤提供该显影废液的浓缩液。

5.权利要求1所述的显影废液的处理方法，其特征在于各金属杂质的含量相对于氢氧化四烷基铵均为50ppm以下，且各金属杂质的含量总值为120ppm以下时，精制处理上述显影废液，再生用作上述显影液的氢氧化四烷基铵水溶液，在各金属杂质含量的总值高于120ppm时，废弃处理上述显影废液，或者混合高纯度的氢氧化四烷基铵水溶液进行稀释，使各金属杂质总含量达到120ppm以下，精制处理稀释液，再生用作上述显影液的氢氧化四烷基铵水溶液。

6.权利要求1所述的显影废液的处理方法，其特征在于上述废弃处理通过将浓缩了四烷基铵的显影废液投入水泥制造的设备中温度在400℃以上的部位来进行。

7.权利要求1所述的显影废液的处理方法，其特征在于将再生的氢氧化四烷基铵水溶液和作为显影液未使用的氢氧化四烷基铵水溶液混合而循环利用。

8.权利要求7所述的显影废液的处理方法，其特征在于作为上述未使用的氢氧化四烷基铵水溶液，使用杂质总含量为100ppb以下的高纯度氢氧化四烷基铵水溶液。