[发明专利]图像增强技术

说明书

技术领域

本发明示例性的实施方案涉及一种图案产生器及其方法。

背景技术

现代UV光刻术正在搜寻新的高度平行的写入方法。使用光学MEMS器件的空间光调制(SLM)可赋予这种可能性。SLM芯片包括DRAM状的CMOS电路，在上面具有几百万个单独可寻址的像素。所述像素由于反射镜元件与寻址电极之间的电力差而偏转。与本发明指定为相同代理人的US6373619中描述了使用SLM的图案产生器的一个示例性实施方案。该专利简短地公开了一种曝光SLM一系列图像的小场步进器(field stepper)。工件设置在一可连续移动的工作台上，脉冲的电磁辐射源(其可为脉冲激光、闪光灯、来自同步加速器光源的闪光等)发射闪光并冻结工件上的SLM图像。在每个闪光之前用新的图案对SLM重新编程，从而在工件上形成连续图案。

提高基板构图速度的一个方法是提高闪光频率和提高其上设置有工件的工作台的速度。与固定的脉冲长度结合提高工作台的速度会抹去工件上的图像。可通过使用短脉冲波长来克服该缺点，然而这不总是可能的，更不用说是理想的，这会成为一个问题。

因此，本领域需要的是一种用于修正当在固定脉冲长度过程中工作台移动过远时所述抹去图像的方法。

发明内容

因此，本发明的一个目的是提供一种方法，其消除或至少减小了上述问题。

依照本发明的第一个方面，通过提供一种方法来获得该目的，该方法用于改善在曝光到移动工件上的印花(stamp)中的至少一个特征边缘陡度，包括下述步骤：在基本上与工件的移动方向相同的方向上移动表示所述印花的图案，将图案的所述移动与曝光辐射源的脉冲长度同步。

本发明还涉及一种将印花曝光到工件上的图案产生器，该工件至少部分地覆盖有辐射敏感层，该图案产生器包括：工作台，其在第一方向上连续移动，且其上设置有所述工件；至少一个机械组件，其能在所述第一方向上移动表示所述工件上的所述印花的图案；同步器，其将脉冲长度与在所述第一方向上的图案的所述移动同步。

附图说明

本发明进一步的特性及其优点将从之后给出的本发明优选的实施方案的详细描述和附图1-6而变得显而易见，这仅仅是示意性的，并不是限制性的。

图1描述了使用包括本发明方法的空间光调制器的现有技术图案产生器的示意性整体图；

图2描述了作为时间函数的工作台和振动图像移动。

具体实施方式

下面将参照附图进行详细描述。描述优选的实施方案来解释本发明，但并不限于这些范围，其由权利要求确定。本领域普通技术人员将认识到根据下面的描述可进行各种等价的变化。

此外，参照模拟SLM描述优选的实施方案。对于本领域普通技术人员应当清楚，当等价地应用除模拟SLM之外的其他SLM时也可以；例如由Texas instruments制造的数字SLM，像数字微反射镜器件(DMD)。此外，SLM可由反射或透射像素组成。此外，参照受激准分子激光器光源描述优选的实施方案。本领域普通技术人员应当清楚，可使用除受激准分子激光器之外的其他脉冲电磁辐射源，例如Nd-YAG激光器、离子激光器、Ti蓝宝石激光器、自由电子激光器或其他脉冲基频激光器、闪光灯、激光等离子体光源、同步加速器光源等。

图1示意性地图解了使用依照现有技术的空间光调制器的图案产生器。所述图案产生器可得益于本发明。所述图案产生器包括电子辐射源110、第一透镜120、半透明反射镜130、第二透镜140、空间光调制器150、第三透镜160、干涉仪170、图案位图产生器180、计算机185、工件190。

激光光源110可以是例如发射308nm、248nm、193nm、156nm或126nm的受激准分子激光器。所述脉冲通过均化及整形透镜120、140被均化和整形。所述透镜120、140包括下述光学特性，即平面波曝光SLM150的表面。激光器的暂时脉冲波长位0.1μs或更小，例如为10ns。激光器的脉冲重复频率为0.5-5kHz，例如为2kHz。

第三透镜160确定系统的缩小率。当使用模拟空间光调制器时，在第三透镜160和半透明反射镜130之间设置有空间滤波器和傅立叶透镜(图中没有示出)。