[发明专利]用于控制自组装膜中的核化的方法和装置有效
申请号: | 200580050148.5 | 申请日: | 2005-06-28 |
公开(公告)号: | CN101213029A | 公开(公告)日: | 2008-07-02 |
发明(设计)人: | 谢亚宏 | 申请(专利权)人: | 加利福尼亚大学董事会 |
主分类号: | B05D3/02 | 分类号: | B05D3/02 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 章社杲;吴贵明 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 控制 组装 中的 方法 装置 | ||
1.一种在基板上形成自组装膜的方法,所述方法包括:
在基板上提供无定形状态的膜前体;
邻近于所述基板提供加热件;
使所述基板和所述加热件相对于彼此移动以形成自组装结晶膜。
2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述加热件是固定的,并且所述基板相对于固定的加热件移动。
3.根据权利要求l所述的方法,其中,所述基板是固定的,并且所述加热件相对于所述固定的基板移动。
4.根据权利要求1所述的方法,其中,所述膜前体包括嵌段共聚物。
5.根据权利要求1所述的方法,其中,所述加热件包括至少一个热尖端部。
6.根据权利要求1所述的方法,其中,在所述基板与所述膜前体之间设置有中间膜。
7.根据权利要求1所述的方法,其中,所述相对移动使所述膜前体的至少一部分的温度升高到它们的玻璃化转变温度以上,但低于有序-无序转变温度。
8.根据权利要求1所述的方法,进一步包括选择性地去除形成在所述基板上的所述自组装膜中的一种的步骤。
9.根据权利要求8所述的方法,进一步包括去除形成在所述基板上的所述自组装膜中的残留物的步骤。
10.根据权利要求l所述的方法,其中,所述基板与热容器热接触。
11.根据权利要求1所述的方法,其中,所述基板与散热器热接触。
12.根据权利要求1所述的方法,其中,所述加热件与所述基板之间的相对移动速度保持低于临界值。
13.一种在基板上形成自组装膜的方法,所述方法包括:
在基板上提供无定形状态的膜前体;
提供含有pH调节介质的分配件;以及
将所述pH调节介质分配到所述基板上,其中,所述pH
调节介质促进所述膜前体结晶成为自组装膜。
14.根据权利要求13所述的方法,其中,所述膜前体包括蛋白质。
15.根据权利要求13所述的方法,其中,所述膜前体包括聚合物。
16.根据权利要求13所述的方法,其中,所述pH调节介质被分配到所述基板的中央区域上。
17.根据权利要求13所述的方法,进一步包括控制从所述分配件分配所述pH调节介质的速度的步骤。
18.根据权利要求13所述的方法,其中,所述pH调节介质含有粘度改变剂。
19.根据权利要求13所述的方法,进一步包括选择性地去除形成在所述基板上的所述自组装膜的多个区域的步骤。
20.一种用于在包含膜前体的基板上形成自组装膜的装置,所述装置包括:
第一加热件;
第二加热件,所述第二加热件邻近于所述第一加热件设置,所述第二加热件与所述第一加热件被间隙隔开;以及
可移动的推进件,用于将所述基板从所述第一加热件推向所述第二加热件。
21.根据权利要求20所述的装置,其中,所述第一加热件具有的温度高于所述膜前体的有序-无序转变温度(TOD),而所述第二加热件具有的温度高于所述膜前体的玻璃化转变温度(Tglass)但低于TOD。
22.根据权利要求20所述的装置,其中,所述第一加热件具有的温度低于所述膜前体的玻璃化转变温度(Tglass),而所述第二加热件具有的温度高于所述膜前体的玻璃化转变温度(Tglass)但低于所述有序-无序转变温度(TOD)。
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