[发明专利]一种钨抛光液及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200610014594.7 申请日: 2006-06-30
公开(公告)号: CN101096572A 公开(公告)日: 2008-01-02
发明(设计)人: 仲跻和;刘玉岭 申请(专利权)人: 天津晶岭电子材料科技有限公司
主分类号: C09G1/02 分类号: C09G1/02;B24B9/04
代理公司: 国嘉律师事务所 代理人: 卢枫
地址: 300385天津市天*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 一种 抛光 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1、一种用于金属钨的抛光液,其特征在于它是由磨料、氧化剂、PH值调节剂、螯合剂和去离子水混合组成,其中磨料占总重量的10%~50%,氧化剂占总重量的0.01%~6%,PH值调节剂占总重量的1%~6%,螯合剂占总重量的0.01%~1%,去离子水占总重量的37%~88.98%,抛光液PH值范围为11~12,粒径为15nm~100nm。

2、根据权利要求1所说的一种用于金属钨的抛光液,其特征在于所说的磨料是指粒径范围为15nm~100nm的水溶硅溶胶或金属氧化物的水溶胶。

3、根据权利要求2所说的一种用于金属钨的抛光液,其特征在于所说的金属氧化物的水溶胶是SiO2、Al2O3、CeO2或TiO2的水溶胶。

4、根据权利要求1所说的一种用于金属钨的抛光液,其特征在于所说的氧化剂是双氧水、硝酸盐或过硫酸盐。

5、根据权利要求1所说的一种用于金属钨的抛光液,其特征在于所说的PH调节剂是氢氧化钠、氢氧化钾、多羟多胺和胺中的一种或两种以上组合。

6、根据权利要求1所说的一种用于金属钨的抛光液,其特征在于所说的螯合剂是具有水溶性且不含金属离子的化合物。

7、根据权利要求6所说的一种用于金属钨的抛光液,其特征在于所说的具有水溶性且不含金属离子的化合物是羟胺、胺盐和胺中的一种或两种以上组合。

8、一种用于金属钨的抛光液的制备方法,其特征在于首先将制备抛光液的所需的磨料、氧化剂、PH值调节剂、螯合剂和去离子水按配方比例取料,并分别进行过滤净化处理,然后在千级净化室的环境内,将各种组分在真空负压的动力下,通过质量流量计输入容器罐中并充分搅拌,混合均匀即可。

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