[发明专利]磁控溅射卷绕镀膜机

说明书

技术领域：

本发明涉及一种磁控溅射卷绕镀膜机，特别涉及的是一种具有多个冷却辊及多个镀膜真空室的磁控溅射卷绕镀膜机。

背景技术：

在塑料薄膜上镀功能膜多采用卷绕镀膜方式，而要在塑料薄膜上镀功能较好的功能膜如在聚酯膜上镀功能较好的低反射膜(Low-E膜)，至少要镀双银结构膜也即要镀9层以上膜层，若镀可见光透过率大于85％，电阻小于1Ω/□的电磁屏蔽膜(EMI膜)，则要镀四银结构即17层膜层，镀每一层膜都需要配置一套阴极及靶芯，而传统的卷绕镀膜机采用单辊整体式镀膜，既在一个镀膜真空室内安放一个冷棍、2-3个阴极及靶芯及卷材放卷机构、收卷机构，由于结构限制原因，不能在圆周排布多至4组以上的阴极，不能适应一个镀程就可以镀4层以上不同功能或材料的膜层，既使在一个镀膜真空室内安放两个冷棍、4-6个阴极及靶芯，也排布不下17个阴极及靶位，达不到镀完17层膜的目的，若按传统方式设计，至少要3个冷却辊，需太大的真空箱且阴极及靶芯全在真空箱内，通水、通电的管线多，产生的气体放气量太大，不利真空泵经济的运行，若要将此种镀膜机的镀膜速度提高到3米/分以上，一次通过即能成为合格膜的阴极需求数将超过20多个，也必须要考虑多个冷却辊的结构设计及方便检修，节约真空泵功率的多个真空室的设计，因此，传统的卷绕镀机不能适应一个镀程就可以镀4层以上不同功能或材料的膜层，生产不出膜层多、功能较好的功能性塑料薄膜。

发明内容：

本发明的目的是为了克服以上不足，提供一种产量高、设备成本低、能适应一个镀程就可以镀4层以上不同功能或材料的膜层的磁控溅射卷绕镀膜机。

本发明的目的是这样来实现的：

本发明磁控溅射卷绕镀膜机，至少包括有卷材放卷机构和/或收卷机构的真空室，至少一个镀膜真空室，连接收卷、放卷真空室及镀膜真空室的真空连接箱，其特征在于有至少一个镀膜真空室中有真空镀膜箱体，位于真空镀膜箱体内的冷却辊，以冷却辊为中心周围布置有至少3组阴极和高低压真空泵及管道组成的真空抽气系统，磁控溅射的阴极的靶及靶芯设置在每个真空镀膜箱体中，阴极通过阴极法兰连接座以法兰连接形式安装在真空镀膜箱体壁上，气体、电源、冷却水连接管线置于真空镀膜箱体壁外，每组阴极之间有挡气隔离板将真空镀膜箱体壳体与冷却辊之间的空隙隔离形成抽气通道。镀膜真空室的数量可根据镀层多少来随意安排，这样每一个镀膜真空室中只安排一个冷棍和若干个阴极及靶芯，而把卷材放卷机构、收卷机构及其真空室和衡张力控制系统全部放在镀膜真空室外，大大减少了镀膜真空室体积，减轻了镀膜真空室的设计和制造难度，又可一个镀程就可以镀4层以上不同功能或材料的膜，当镀膜工艺的需要少用镀膜真空室时，可以关闭单独的不用的镀膜真空室，减少抽气真空泵的运行，每个镀膜真空室安置的单独组成的真空镀膜箱体中，设置有磁控溅射的阴极及靶芯，也可根据镀膜工艺的需要开启或关闭，每一组阴极及靶芯之间有挡气隔离板，使两组阴极之间的窜气率低于20％甚至于5％，同时，抽真空系统利用隔离板形成的通道和/或每组阴极之间设有两块挡气隔离板之间形成的通道抽气，沿冷却辊圆周分布安装在镀膜真空室壳体上的阴极及靶芯至少为3组，特别是阴极在冷却辊圆周分布并安装在与冷却辊距离最佳的最短的真空箱体壳体外面，可以节约真空箱腔体体积。

上述的镀膜真空室为二个。增加镀膜真空室，可增加镀膜层数。

上述的镀膜真空室为三个。要增加镀膜层数，还可继续排列多个镀膜真空室。

上述的卷材放卷机构与卷材收卷机构同置于一个真空室内。将卷材放卷机构与卷材收卷机构同置于一个真空室内，可方便在一个真空室内同时完成对卷材的收取和安放，减少镀膜真空室内真空度损耗，减少抽气真空泵的运行。

上述的卷材放卷机构与卷材收卷机构分别设置在卷绕镀膜机两端独立设立的真空室內。

上述的两组阴极之间设立的挡气隔离板由两块隔离板组成抽气通道，抽气泵及抽气管道放置在真空镀膜箱体两端和/或真空镀膜箱体之上。原有的技术一般两阴极之间只设一板隔板，在镀膜真空室两端头设抽气管道及泵，但膜宽在1200mm以上时，只在两端头抽气，难以保证镀膜区全宽度上真空度，难保镀膜均匀度，所以可在两组阴极及靶芯之间设立两块隔离板组成抽气通道，在两端头抽气同时，还可在真空镀膜箱体之上设置抽气泵及抽气管道，利用两块隔板形成的通道抽气，使两个阴极之间的加入的工艺气体不相窜，这种结构可以将冷却辊加长到2.5m长，生产宽幅薄膜，且薄膜镀层均匀性很好。