[发明专利]液晶显示器制造方法

权利要求书

1.一种液晶显示器制造方法，其包括如下步骤：

步骤一，提供一绝缘基底，其包括一薄膜晶体管区、一显示区和一电容区，在该绝缘基底上依序沉积一栅极金属层和一第一光阻层；

步骤二，以第一光罩对该第一光阻层进行曝光，并显影该第一光阻层，然后对该栅极金属层进行蚀刻，形成该薄膜晶体管区的栅极和该电容区的电容电极；

步骤三，在该基底上依序沉积一绝缘层、一非晶硅层、一掺杂非晶硅层和一第二光阻层；

步骤四，以第二光罩对该第二光阻层进行曝光，并显影该第二光阻层，然后蚀刻掉该显示区和电容区的掺杂非晶硅层、非晶硅层和绝缘层；

步骤五，在该基底上依序沉积一源/漏极金属层和一第三光阻层；

步骤六，以第三光罩对该第三光阻层进行曝光，并显影该第三光阻层，然后蚀刻该源/漏极金属层，在该薄膜晶体管区形成源极和漏极；

步骤七，在该基底上依序沉积一钝化层和一第四光阻层；

步骤八，以第四光罩对该第四光阻层进行曝光，并显影该第四光阻层，然后蚀刻该钝化层，保留该电容区的钝化层；

步骤九，在该基底上依序沉积一透明金属层和一第五光阻层；

步骤十，以第五光罩对该第五光阻层进行曝光，并显影该第五光阻层，然后蚀刻该透明金属层，在该薄膜晶体管区、该显示区和该电容区形成像素电极，该电容区对应的像素电极、该电容电极和夹在其间的钝化层构成一电容。

2.如权利要求1所述的液晶显示器制造方法，其特征在于：步骤一的绝缘基底为玻璃。

3.如权利要求1所述的液晶显示器制造方法，其特征在于：步骤一的绝缘基底进一步包括一线路区。

4.如权利要求3所述的液晶显示器制造方法，其特征在于：步骤四的第二光罩为一狭缝光罩，其包括一遮光区、一狭缝区和一透光区，该遮光区对应该薄膜晶体管区，该狭缝区对应该线路区，该透光区对应该显示区和电容区。

5.如权利要求4所述的液晶显示器制造方法，其特征在于：步骤四在曝光和显影后，形成一光阻图案，即该狭缝区的部分光阻较该遮光区的部分光阻薄。

6.如权利要求5所述的液晶显示器制造方法，其特征在于：步骤四进一步包括灰化该光阻图案，以使较薄的部分光阻被灰化完全时，较厚的部分光阻还有剩余。

7.如权利要求3所述的液晶显示器制造方法，其特征在于：步骤一进一步包括在该线路区形成扫描线。

8.如权利要求3所述的液晶显示器制造方法，其特征在于：步骤六进一步包括在该线路区形成一数据线。

9.如权利要求1所述的液晶显示器制造方法，其特征在于：步骤四的蚀刻方式为湿蚀刻，是采用硝酸和氢氟酸两者的混合液作为蚀刻液。

10.如权利要求1所述的液晶显示器制造方法，其特征在于：步骤六的蚀刻液仅蚀刻该源/漏极金属层。