[发明专利]一种亚光熔块及其制造方法无效

申请号：	200610074544.8	申请日：	2006-04-27
公开（公告）号：	CN101062870A	公开（公告）日：	2007-10-31
发明（设计）人：	张平华	申请（专利权）人：	霍镰泉
主分类号：	C04B41/86	分类号：	C04B41/86;C03C8/02
代理公司：	北京申翔知识产权代理有限公司	代理人：	周春发
地址：	528219广东省佛山市***	国省代码：	广东;44
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摘要：
搜索关键词：	一种亚光及其制造方法
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【权利要求书】：

1、一种亚光熔块，其特征在于：所述亚光熔块各组分的重量百分比为：SiO₂ 30～40％，ALO₃ 13～16％，CaO 6～8％，MgO 3～5％，K₂O 0.7～1.5％，NaO₂ 3～4％，ZnO 2～5％，PbO 1～3％，BaO 6～8％，ZnO₂ 3～6％，B₂O₃ 2～4％，Li₂O 0.2～0.6％，废釉、刮边釉10～30％。

2、根据权利要求1所述的一种亚光熔块，其特征在于：所述球磨釉浆细度为325目：0.2～0.5％。

3、一种亚光熔块的制造方法，其特征在于：所述制造方法工艺流程如下：原料进厂→检验→按原料组分配比配料→熔制→水淬→检验→包装。

4、根据权利要求3所述的一种亚光熔块的制造方法，其特征在于：所述熔制温度为1500～1600℃。

5、根据权利要求3所述的一种亚光熔块的制造方法，其特征在于：所述球磨釉浆比重为1.85～1.95g/cm³。

6、根据权利要求3所述的一种亚光熔块的制造方法，其特征在于：所述球磨釉浆流速为65S以下。

7、根据权利要求3所述的一种亚光熔块的制造方法，其特征在于：所述底釉比重为1.82g/cm³，所述底釉重量为：180～200g。

8、根据权利要求3所述的一种亚光熔块的制造方法，其特征在于：所述面釉比重为1.90g/cm³，所述面釉重量为：180～200g。

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