[发明专利]令透明基板上透明电极不可见的处理方法有效

专利信息
申请号: 200610080960.9 申请日: 2006-05-23
公开(公告)号: CN101078820A 公开(公告)日: 2007-11-28
发明(设计)人: 胡俊明 申请(专利权)人: 宸鸿光电科技股份有限公司
主分类号: G02F1/133 分类号: G02F1/133;G03F7/16;G03F7/26
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 代理人: 赵燕力
地址: 台湾省台北县*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 透明 基板上 电极 可见 处理 方法
【权利要求书】:

1.一种令透明基板上透明电极不可见的处理方法,该方法应用在布设有多条透明电极的一透明基板上,其特征在于包括下列步骤:

将具有与该等透明电极相同的折射率的一非导电纳米材料粒子所形成的溶液涂布在该透明基板及该等透明电极上;

对该透明基板进行温度介于摄氏100~200度间的高温热处理,经过一段热处理时间后,在该透明基板及该等透明电极上形成一平整且均匀的遮蔽层。

2.如权利要求1所述的令透明基板上透明电极不可见的处理方法,其特征在于:在将该溶液涂布在该透明基板及该等透明电极前,尚包括下列步骤:

将该非导电纳米材料粒子添加至一溶剂中;

将一分散剂添加至该溶剂中;

以超声波对该溶剂进行处理,将该非导电纳米材料粒子均匀地分散在该溶剂中,以形成该溶液。

3.如权利要求2所述的令透明基板上透明电极不可见的处理方法,其特征在于:在该分散剂添加至该溶剂后,及超声波对该溶剂进行处理前,添加一接着剂在该溶剂中。

4.如权利要求3所述的令透明基板上透明电极不可见的处理方法,其特征在于:该非导电纳米材料粒子折射率介于1.8~2.2间,且为氧化锑、氧化铬、氧化铟、氧化钽、氧化钛或氧化锆材料,或所述材料的混合物。

5.如权利要求4所述的令透明基板上透明电极不可见的处理方法,其特征在于:该接着剂为硅氧烷化合物。

6.如权利要求5所述的令透明基板上透明电极不可见的处理方法,其特征在于:该溶剂是一乙醇溶液。

7.如权利要求6所述的令透明基板上透明电极不可见的处理方法,其特征在于:该非导电纳米材料粒子的大小介于10~100nm间。

8.一种令透明基板上透明电极不可见的处理方法,该方法应用在布设有多条透明电极的一透明基板上,其特征在于包括下列步骤:

将具有与该等透明电极相同的折射率的一非导电纳米材料粒子所形成的溶液涂布在该透明基板及该等透明电极上;

对该透明基板进行温度介于摄氏200~300度间的高温热处理,经过一段热处理时间后,在该透明基板及该等透明电极上形成一平整且均匀的遮蔽层;该方法在该溶液进行涂布前包括下列步骤:

将氧烷金属化合物添加至一溶剂中,并对该溶剂进行搅拌;

将一凝胶反应催化剂添加至该溶剂中;

对该溶剂进行温度介于摄氏50~80度间的低温热处理,经过一反应时间即形成具有该非导电纳米材料粒子的溶液。

9.如权利要求8所述的令透明基板上透明电极不可见的处理方法,其特征在于:该氧烷金属化合物为四氧丁烷基钛。

10.如权利要求9所述的令透明基板上透明电极不可见的处理方法,其特征在于:该溶剂为乙基丙酮溶剂。

11.如权利要求10所述的令透明基板上透明电极不可见的处理方法,其特征在于:该凝胶反应催化剂为硝酸及水。

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