[发明专利]偏光片用表面保护膜无效

专利信息
申请号: 200610099473.7 申请日: 2006-07-24
公开(公告)号: CN101114026A 公开(公告)日: 2008-01-30
发明(设计)人: 谢嵩岳;冯殿润;张纪铭;曹俊哲;颜世勋 申请(专利权)人: 南亚塑胶工业股份有限公司
主分类号: G02B1/10 分类号: G02B1/10;G02B5/30
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 周长兴
地址: 台湾省*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 偏光 表面 保护膜
【权利要求书】:

1.一种表面有涂布防污拔水抗静电的聚合物膜,包含:

涂布于该膜上的涂布液,此涂布液包含(1)聚赛吩,(2)特殊水性连结剂,含量至少大于1%,(3)界面活性剂;(4)与聚赛吩反应的交联剂。

2.如权利要求1的防污拨水抗静电聚合物膜,其聚赛吩为聚乙烯基二氧赛吩。

3.如权利要求1的防污拨水抗静电聚合物膜,其界面活性剂包含氟素界面活性剂。

4.如权利要求1的防污拨水抗静电聚合物膜,其特殊水性连结剂包含树脂、含表面处理剂改质过的填充粒子及添加剂。

5.如权利要求1的防污拨水抗静电聚合物膜,其中与聚赛吩反应的交联剂包含环氧化物及三聚氰胺化合物。

6.如权利要求1的防污拨水抗静电聚合物膜,包含聚酯高分子。

7.如权利要求1的防污拨水抗静电聚合物膜,其聚赛吩在涂布液中含量为0.05~0.5重量百分比。

8.如权利要求1的防污拨水抗静电聚合物膜,其特殊水性连结剂在涂布液中含量为1~10重量百分比。

9.如权利要求1的防污拨水抗静电聚合物膜,其界面活性剂在涂布液中含量为0.01~0.5重量百分比。

10.如权利要求1的防污拨水抗静电聚合物膜,其涂布液在聚合物膜的涂层厚度为0.001~0.5微米。

11.如权利要求1的防污拨水抗静电聚合物膜,其表面阻抗为108~1010Ω/□。

12.如权利要求1的防污拨水抗静电聚合物膜,其表面水接触角为102°~106°。

13.如权利要求1的防污拨水抗静电聚合物膜,其光透过率为89~92%。

14.如权利要求4的防污拨水抗静电聚合物膜,其中树脂包含下列组成的两种或三种成分的组合:

a.含有20-50wt%的聚酯树脂;

b.含有10-40wt%的三聚氰胺树脂或三聚氰胺变性树脂;

c.含有20-60wt%成分的压克力树脂。

15.如权利要求4的防污拨水抗静电聚合物膜,其中表面处理剂至少一种选自含Silane或高分子聚合物。

16.如权利要求4的防污拨水抗静电聚合物膜,其中添充粒子至少一种选自氧化铝、氧化硅、氧化钛、氧化锆、碳酸钙、硫酸钡的材料。

17.如权利要求1的防污拨水抗静电聚合物膜,其涂布防污拨水抗静电涂布液的涂布方法包含:off-line coating制程,和in-line coating的双轴延伸制程。

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