[发明专利]热处理装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种热处理装置，该热处理装置对等离子显示器用玻 璃基板等的平板状，并且具有脆性的被处理物，进行加热处理，退火 处理和冷却处理等的热处理。

背景技术

作为等离子显示器用玻璃基板用玻璃基板等的平板状、并且具有 脆性的被处理物的热处理的方式，人们知道有载置式(セッタ一方式)。 在进行载置式热处理时候，将被处理物设置于被称为“载置玻璃”的具 有强度的耐热用厚板的台板上，通过多个搬送滚柱的旋转，在炉内的 搬送路线上搬送(例如，参照专利文献1)。

例如，进行被处理物宽度为1460mm，长度为1030mm，厚度为 2.8mm的玻璃基板的热处理时，采用宽度为1600mm，长度为1200mm， 厚度为5mm的载置玻璃。

采用载置式热处理，由于必须还对热容量大于被处理物的载置玻 璃进行加热和冷却，所以消耗能量大，另外，加热和冷却区域也变长。

于是，在过去，为了应对节省能量和整体尺寸减小的要求，人们 提出不采用载置玻璃的非载置式的热处理(例如，参照专利文献2)。 采用非载置式热处理，由于将被处理物直接放置于搬送滚柱上，进行 搬送，所以不必对热容量大的载置玻璃进行加热和冷却，消耗能量变 小，另外可以缩短加热和冷却区域。

专利文献1：JP特开2004-293877号公报

专利文献2：JP特开2002-318077号公报

但是，玻璃基板等具有脆性的平板状被处理物，有在热处理中在 炉内开裂的情况。在热处理中被处理物开裂的情况下，在载置式的热 处理时，被处理物留在载置玻璃上，但是，在非载置方式的热处理时， 有被处理物的一部分从多个搬送滚柱之间掉落下方的可能性。如果已 掉落的被处理物大于从炉内的底面到搬送面的距离，可能从多个搬送 滚柱之间，突出到搬送面的上方，妨碍后续的被处理物的搬送。

发明内容

发明要解决的课题

本发明的目的在于提供非载置式的热处理装置，其可以防止被处 理物开裂而后从搬送滚柱之间掉落的搬送故障。

用于解决课题的技术方案

本发明所涉及的热处理装置按照规定的温度条件，对被处理物进 行热处理，该被处理物在多个搬送滚柱上搬送。该搬送滚柱以可旋转 的方式，被支承于沿炉内的搬送路线的规定间距的多个位置中的各个 位置。另外，搬送滚柱被设置于一个位置，该位置满足从所述炉内的 底面到搬送所述被处理物的搬送面的距离在所述间距的2.4倍以上的 要求在于多个搬送滚柱上直接搬送被处理物的情况下，例如，在被处 理物呈矩形的情况下，被处理物在搬送方向的长度小于多个搬送滚柱 的间距的1.6倍时，被处理物从相邻的搬送滚柱之间掉落。由此知道， 在从被处理物的重心到搬送方向的一侧的端部的长度小于多个搬送滚 柱的间距的0.8倍时，被处理物从相邻的搬送滚柱之间掉落。

另外，在被处理物呈三角形的情况下，搬送方向的被处理物的重 心位于从三角形的底边到与底边相垂直的方向的长度的3分之1的位 置，如果在从重心到底边的长度小于搬送滚柱的间距的0.8倍，从重心 到与所述底边相对顶点的长度小于搬送滚柱的间距的1.6(＝0.8×2)倍， 即，被处理物在搬送方向的长度小于多个搬送滚柱的间距的2.4倍时， 被处理物从相邻的搬送滚柱之间掉落。

于是，被处理物既可为矩形，也可为三角形，在被处理物的搬送 方向的长度为多个搬送滚柱的间距的2.4倍以上的情况下，其不从相邻 的搬送滚柱之间掉落。

在该方案中，由于从炉内的底面到搬送面的距离在多个搬送滚柱 的间距的2.4倍以上，故已掉落的被处理物不突出到搬送面的上方，不 妨碍后续的被处理物的搬送。

此外，热处理装置沿所述搬送路线，具有对所述被处理物进行热 处理的温度条件相互不同的多个区域，在炉内的每个区域的温度难以 保持均匀的情况下，容易产生被处理物一个部位和其它部位的温度不 同而造成的开裂，所谓的热开裂。

但是，在本发明所涉及的热处理装置中，由于即使在被处理物中 产生开裂的情况下，搬送滚柱仍设置于已掉落的被处理物不在搬送面 的上方突出的高度，故不妨碍后续的被处理物的搬送。

还有，在被处理物具有玻璃的情况下，玻璃具有脆性，在搬送中， 容易开裂，但是，象所述那样，按照本发明，已掉落的被处理物不在 搬送面的上方突出，不妨碍后续的被处理物的搬送。